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半導(dǎo)體超純水的水質(zhì)要求
半導(dǎo)體超純水在半導(dǎo)體生產(chǎn)中主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設(shè)備的冷卻水、電鍍?nèi)芤旱呐渲?。產(chǎn)品的質(zhì)量與產(chǎn)量密切相關(guān)。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)降低PN結(jié)的耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化。細(xì)菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會(huì)使p型硅片局部變?yōu)镹型硅片，導(dǎo)致器件性能下降。水中的顆粒，包括細(xì)菌，如果附著在硅片表面，會(huì)導(dǎo)致短路或性能惡化?？梢?jiàn)，超純水在半導(dǎo)體行業(yè)的必要性。
隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來(lái)越嚴(yán)格。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因此半導(dǎo)體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水有嚴(yán)格的水質(zhì)要求。目前，半導(dǎo)體所用的超純水需要達(dá)到的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)為：我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))，我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)，國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)等。
那么，如何產(chǎn)出高質(zhì)量的半導(dǎo)體超純水？
建議采用“兩級(jí)RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝”這類(lèi)的超純水設(shè)備，可保證處理后的水電阻和電電阻達(dá)到18MΩ.cm以上。除了采用以上工藝外，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也需要相對(duì)緊湊，這樣一來(lái)占地面積小可為企業(yè)節(jié)省大量建設(shè)空間。這種半導(dǎo)體超純水設(shè)備出廠前都是需進(jìn)行壓力測(cè)驗(yàn)的，所以出現(xiàn)故障概率小。還可以配備反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上確保了水處理設(shè)備的出水質(zhì)量。
