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半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）

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更新時間：2023-04-10 15:32:17瀏覽次數(shù)：354次

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產(chǎn)品簡介

半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置（MTK） MTK-HT 型號：MTK-HT 品牌：MTK 臭氧濃度：臭氧水濃度高 30ppm 臭氧產(chǎn)量：氧氣消耗量～16L/min. ......

詳細介紹

進口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）

參數(shù)

臭氧生成方式：無聲放電法

將臭氧氣體溶解于純凈水的方法：噴射方式

臭氧水中臭氧的濃度監(jiān)測：紫外吸收法

臭氧水濃度：為30ppm

臭氧水流量：50L /min

設備尺寸：寬度400mm 深度550mm 高度850毫米（標準型）

重量：20　～　100Kg

消耗功率：～３KW

氧氣壓力：為0.1MPa（供給為0.3MPa）

氧氣純度：99.5％（）

氧氣消耗量：～16L/min.

供應純凈水的壓力：0.20Mpa以上（理想值0.25MPa）

供應純凈水的溫度：低于25℃

臭氧氣體生成部的冷卻水溫度：理想值為20℃以下。如無法實現(xiàn)，需根據(jù)情況增加冷卻器（可選）。

CO2氣體消耗量（臭氧濃度過高時需通過純凈水注入）：大約100cc/min

特點

臭氧水濃度高

（30ppm）

■臭氧水中無金屬雜質

半導體，液晶，太陽能電池等潔凈規(guī)格（臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成）

■臭氧濃度上升快

達到臭氧濃度僅需大約1分鐘

■生成器體積小

長400mm。寬550mm。高820mm（標準規(guī)格）

用途

?半導體（清洗）

?FPD，液晶（清洗）

?MEMS，傳感器（清潔）

?硬盤（清洗）

?太陽能電池（清潔）

?醫(yī)療（洗手，純凈水管道清洗）

?食品（洗手，消毒，除臭）

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