主要 特性 用途 | UV清洗燈同時(shí)發(fā)出185NM，254NM光波，UV光照度(254NM)：15-25MW/CM2， 可以清洗PCB/FPC/塑膠/金屬/玻璃/陶瓷硅/電子器件等表面有機(jī)污染物及輕微改質(zhì)，增強(qiáng)表面附著力，達(dá)因值45以上，適合生產(chǎn)過(guò)程流水線批量作業(yè)。典型客戶(hù)案例：住友電工（深圳），松下半導(dǎo)體（蘇州），張家港康得新材料，杭州納晶科技，HITACHI, SANYO, TOSHIBA,JDC, 技研新陽(yáng)，中科院研究所，浙江大學(xué)，南京工業(yè)大學(xué)，北京理工大學(xué)，上海大眾汽車(chē)電子，上海延鋒偉世通汽車(chē)電子， 南玻，京東方等。 |
1.0 設(shè)備構(gòu)造概述:
型號(hào) | UV清洗機(jī)LXY-SUV110X26 | |
規(guī)格 | L3500mm*W950mm*H1840mm | |
序號(hào) | 名稱(chēng) | 規(guī) 格 |
1 | 機(jī)架 | 外形部分：外形材質(zhì)采用T1.2 冷板折彎，箱體靜電噴塑（不同一般噴漆，高檔、易清洗、耐腐蝕）電腦白，箱底配4個(gè)3〞萬(wàn)向輪。進(jìn)料、出料部分各長(zhǎng)500mm，光源及遮光部分長(zhǎng)2500mm，進(jìn)料口高度50mm，前后配擋板可調(diào)高低。 |
2 | UV區(qū) | 采用26 套日本SEN進(jìn)口110W UV 清先光源，燈管有效發(fā)光長(zhǎng)為560 mm，波長(zhǎng)254nm及185nm， 燈箱長(zhǎng)度約為1500MM，燈管自左至右并列分布在爐腔，加裝UV 鏡面反光燈罩，有效提高紫外線的使用率。UV 燈可單獨(dú)控制，燈管高度可上下調(diào)節(jié)。燈管上方裝有抽風(fēng)裝置，有效散發(fā)UV燈管照射帶來(lái)的熱量，以及把UV燈產(chǎn)生的臭氧排到室外；UV光照部分鋪304#鏡面板。 |
3 | 傳動(dòng)部分 | 采用180W 電子調(diào)速馬達(dá)速度數(shù)字顯示器，速度0.5~3M/min 可調(diào)，采用動(dòng)力滾筒配黑色耐熱特氟龍網(wǎng)帶，帶寬600mm。 |
4 | 循環(huán)風(fēng)部分 | 設(shè)備頂部加裝高效凈風(fēng)系統(tǒng)FFU，采用強(qiáng)制冷風(fēng)，UV 區(qū)設(shè)有維修門(mén)，方便打開(kāi)清理及維護(hù)。底部配大風(fēng)量中國(guó)臺(tái)灣離心風(fēng)機(jī)，風(fēng)量可調(diào)，有效降低產(chǎn)品及UV 爐內(nèi)的溫度，提高燈管壽命。 |
5 | 電器部分 | 電源采用三相五線制，總功率約4KW，380V，每盞燈可獨(dú)立控制、每盞燈配有計(jì)時(shí)器，總電源開(kāi)關(guān)，設(shè)有緊急停止，主要電器元件為正泰品牌。 設(shè)備控制系統(tǒng)采用信捷PLC+人機(jī)界面，可記錄每支燈管的使用時(shí)長(zhǎng)。 |
紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過(guò)光清洗后的材料表面可以達(dá)到原子級(jí)清潔度。 其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成離子，流離態(tài)原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長(zhǎng)的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，*清除物體表面的污染物。
紫外光UV清洗原理 
應(yīng) 用
紫外線UV光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍:
1.各種材料(ITO玻璃,光學(xué)玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理;
2.清除石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹(shù)脂
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；
4.超高真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗，可以極大的提高基體表面潤(rùn)濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
6。印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
7。大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越高，晶格的微細(xì)化越來(lái)越密，要求表面的潔凈度越來(lái)越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。
8。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生
9。在光盤(pán)的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。
10。磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果好。
11。石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
12。在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過(guò)光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
13。彩色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。
14。敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過(guò)光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高
15。光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。
16。樹(shù)脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。
環(huán)保在線