紫外線(xiàn)光催化氧化技術(shù)

光催化氧化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CCl4、多l(xiāng)u聯(lián)苯等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，使H2O2分解產(chǎn)生羥基自/由基的速率大大加快，促進(jìn)有機(jī)物的氧化去除。

光催化氧化技術(shù)是在光化學(xué)氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的。光化學(xué)氧化技術(shù)是在可見(jiàn)光或紫外光作用下使有機(jī)污染物氧化降解的反應(yīng)過(guò)程。但由于反應(yīng)條件所限，光化學(xué)氧化降解往往不夠chedi，易產(chǎn)生多種芳香族有機(jī)中間體，成為光化學(xué)氧化需要克服的問(wèn)題，而通過(guò)和光催化氧化劑的結(jié)合，可以大大提高光化學(xué)氧的效率。

根據(jù)光催化氧化劑使用的不同，可以分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。

均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過(guò)光助 - 芬頓反應(yīng)產(chǎn)生羥基自/由基使污染物得到降解。紫外光線(xiàn)可以提高氧化反應(yīng)的效果，是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過(guò)加速臭氧分解速率，提高羥基自/由基的生成速度，并促使有機(jī)物形成大量活化分子，來(lái)提高難降解有機(jī)污染物的處理效率。

 工業(yè)廢水明渠式紫外線(xiàn)光催化消毒模塊

設(shè)備特點(diǎn)

單元陣列式臭氧機(jī)組是公司歷經(jīng)多年研發(fā)，適應(yīng)市場(chǎng)變化和需求，經(jīng)過(guò)反復(fù)論證和改進(jìn)推出的一款針對(duì)基于臭氧的、氧化技術(shù)的臭氧制備系統(tǒng)，其采用電暈法中的間隙式放電，凈產(chǎn)率高，以下特點(diǎn)是目前市場(chǎng)上頭一份的：

1）*的單元冗余技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)多臺(tái)機(jī)組實(shí)時(shí)切換，降低臭氧機(jī)組備份的成本，可以實(shí)現(xiàn)5備1（即5臺(tái)機(jī)組只備份1臺(tái)機(jī)組），相比市場(chǎng)上的常規(guī)臭氧機(jī)1用1備具有明顯的優(yōu)勢(shì)。

2）多元冷、卻系統(tǒng)，在水冷技術(shù)中可以實(shí)現(xiàn)小水量循環(huán)散熱，只有目前市面臭氧機(jī)組所需水量的1/20，并耦合風(fēng)冷，對(duì)整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行作出有力的保障。

3）智能保護(hù)系統(tǒng)，可以在運(yùn)行機(jī)組和備份機(jī)組間實(shí)現(xiàn)自動(dòng)切換，保證機(jī)組有足夠的停機(jī)時(shí)間，降低機(jī)組的疲勞度，保證使用壽命。

4）每個(gè)放電體都有獨(dú)、立的電路控制和放電控制系統(tǒng)。由于機(jī)組單元已經(jīng)作了冗余設(shè)計(jì)，單個(gè)放電體的損壞不會(huì)影響整體機(jī)組的運(yùn)行，當(dāng)機(jī)組放電體損壞達(dá)到一定比例，會(huì)自動(dòng)切換到備份機(jī)組，并反應(yīng)到操作界面，對(duì)操作人員提出維護(hù)報(bào)告。

5）多元?dú)饴诽幚硐到y(tǒng)，對(duì)機(jī)組所需的氧氣源進(jìn)行有效的除塵、除水、濾油、降溫，能大的提高機(jī)組的臭氧凈產(chǎn)率。

工業(yè)廢水明渠式紫外線(xiàn)光催化消毒模塊