簡介：
超聲波鈣鈦礦霧化噴涂設備可將高度均勻的助焊劑薄膜涂到目標區(qū)域，而不會產(chǎn)生過多噴涂且不會堵塞。超聲波噴涂可提供精確，可重復，可控制的噴涂解決方案，用于將助焊劑噴涂到接觸墊上。噴涂非常薄，均勻的助焊劑層的能力可防止過多的助焊劑殘留，嚴格控制助焊劑厚度還可以防止芯片浮動，避免停機時間和不良的芯片連接。最小的過量噴涂可防止磁通量接觸無源設備。其他方法，例如噴射，浸焊，壓力噴嘴噴霧不能施加目標薄的助焊劑層。自動化的XYZ三軸聯(lián)動系統(tǒng)可實現(xiàn)高產(chǎn)量。多個噴嘴配置可以進一步加快噴涂過程。
工作原理：
超聲波噴嘴通過將高頻聲波轉(zhuǎn)換成機械能而工作，機械能被轉(zhuǎn)移到液體中，產(chǎn)生駐波。液體通過噴嘴導入到霧化面，當液體離開噴嘴的霧化表面時，它被破碎成均勻微米級液滴的細霧，從而實現(xiàn)霧化。在超聲波噴涂過程中，可以精準地控制液滴尺寸和分布，從而使非常小的液滴和顆粒能夠快速蒸發(fā)，由此產(chǎn)生具有高比表面積的顆粒，形成薄膜涂層。
組成搭配：
整套設備可以由：超聲波噴頭、智能化操作系統(tǒng)、專用驅(qū)動電源、運動系統(tǒng)、液體供給系統(tǒng)、氣體導流系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、液體分散系統(tǒng)、外殼箱體等組成。我們可以根據(jù)您的應用，配置不同的組合構架來制定荃方位解決方案。
超聲波鈣鈦礦霧化噴涂設備
優(yōu)勢：
一、高度可控的噴涂避免了因噴涂過多而造成的返工成本。
二、能夠控制助焊劑厚度，涂層厚度薄至20微米。
三、均勻的助焊劑層消除了裸片浮動，后者可能導致裸片和基板報廢。
四、可以容納由多種基材配置組成的處理托盤。
五、無堵塞的超聲波噴涂只需極少的清潔工作，并具有很高的重復性。
服務：
我們提供用于霧化噴涂的各種超聲波處理器。我們也隨時為您提供滿意的加工定制服務并為您提出解決方案。
