為了確保光刻技術(shù)獲得可重復(fù)、可靠和可接受的結(jié)果的關(guān)鍵要求是在基材表面均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求，一般涂覆光刻膠的方法選擇超聲波噴涂法。
光刻膠
霧化噴涂是旋涂的替代方法，特別是當(dāng)基材表面或形態(tài)導(dǎo)致光刻膠無法達(dá)到所需的均勻度時(shí)。噴涂的基本原理是光刻膠被霧化成微米級的液滴，然后沉積形成光刻膠膜。
液滴的形成可以通過多種技術(shù)實(shí)，簡單的方法是從類似于傳統(tǒng)噴槍和氮?dú)鈬婎^的噴嘴產(chǎn)生霧化噴霧(目前已經(jīng)被第二種方法替代)。相對于傳統(tǒng)噴槍來說一般選氮?dú)猓驗(yàn)樗兄跍p少濕氣或顆粒對光刻膠的污染，并產(chǎn)生干燥的液滴霧。
形成霧化噴霧的第二種標(biāo)準(zhǔn)方法是使用超聲波霧化噴涂機(jī)。超聲波霧化噴涂機(jī)通過光刻膠介質(zhì)的高頻機(jī)械振動(dòng)產(chǎn)生光刻膠液滴，然后通過載氣將其輸送到基材上。
然后將光刻膠液滴沉積在基板表面上，形成一層連續(xù)的光刻膠薄膜。因此，噴涂能夠覆蓋任意形狀的基板的整個(gè)表面，并且無論拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)如何都能提供保形涂層。此外，與旋涂相比，噴涂浪費(fèi)的光刻膠更少，從而可以提高產(chǎn)量。
為了能夠噴涂光刻膠，光刻膠必須具有足夠低的粘度。通常，粘度為幾 cSt，可能需要用溶劑稀釋光刻膠。稀釋光刻膠會導(dǎo)致光刻膠老化過程加速，并在介質(zhì)中形成顆粒。噴涂的另一個(gè)限制是，由于落在表面上的液滴隨機(jī)分布，因此很難形成小于 1 µm 的薄膜。要形成連續(xù)的薄膜，需要達(dá)到最小臨界光刻膠液滴密度，這會增加最小薄膜厚度并增加處理時(shí)間。
光刻膠抗蝕劑噴涂機(jī)
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