阜新市定制AOT紫外光消毒器設(shè)備：    AOT水體凈化設(shè)備，集物理、化學(xué)、微生物學(xué)、機械、電子、流體力學(xué)等學(xué)科于一體，采用光催化氧化技術(shù)，利用特定光源激發(fā)納米TiO2光觸媒涂層，大大提高催化活性和使用效果，使其產(chǎn)生更多的具有強氧化特性的羥基自由基，將水體中的細菌、病毒、微生物、有機物等進報行分解，提高水體消毒、滅菌的效果，使處理后的水質(zhì)達到國家生活飲用水、泳池水等行業(yè)用水標(biāo)準(zhǔn)。
阜新市定制AOT紫外光消毒器設(shè)備：   AOT水體凈化設(shè)備由紫外線制備、納米 TiO2 涂層制備、控制器等組成。由多孔結(jié)構(gòu)的TiO2納米顆粒制備的TiO2 涂層，與紫外光充分接觸，進行催化反應(yīng)，導(dǎo)致水分子失去氫原子形成羥基自由基（OH radical），羥基自由基混合于待處理的水體中，利用反應(yīng)過程中羥基自由基的強氧化性，對水體中的細菌、病毒、微生物、有機物以等進行降解，將高分子和大分子有機物反應(yīng)形成小分子化合物直至生成二氧化碳和水，滅菌率達99%。
與同類設(shè)備相比，具有、方便、快捷、成本低程度高、副產(chǎn)物、安全可靠、適應(yīng)性強、維護方便快捷等特點，本課題的開發(fā)成功，對推動我國水資源綜合利用的技術(shù)進步，具有十分重要的意義。

1972年Fujishima和Honda發(fā)現(xiàn)光電池中光照射TiO2可以發(fā)生水的氧化還原反應(yīng)放出H2，1976年Carey等將半導(dǎo)體用于有機污染物降解，光催化的方法引起了廣泛的重視 。
早期對光催化技術(shù)的研究多集中在有機污染物的降解上，直到1985年，Matsunaga等利用UVA波段的光源在TiO2催化下進行了殺滅微生物實驗 。至此，一系列的AOT光催化滅菌的研究工作從此展開。

軟件及控制單元
主體集成具有控制程序的4.5英寸TFF彩色液晶顯示；
同時支持在線自動控制和手動立控制兩種工作模式；
自動控制模式下，可實時顯示閥門位置，具有安全防護預(yù)警功能；
內(nèi)置儀器方法，使用時僅僅需要設(shè)置采樣周期與采樣次數(shù)，操作簡單；
具有二級加密調(diào)試程序，用于設(shè)備調(diào)試、內(nèi)部方法設(shè)定及用戶靈活使用。

紫外線殺菌消毒是利用適當(dāng)波長的紫外線能夠破壞微生物機體細胞中的DNA（脫氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子結(jié)構(gòu)，造成生長性細胞死亡和（或）再生性細胞死亡，達到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術(shù)是基于現(xiàn)代防疫學(xué)、醫(yī)學(xué)和光動力學(xué)的基礎(chǔ)上，利用特殊設(shè)計的率、高強度和命的UVC波段紫外光照射流水，將水中各種細菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。

紫外線系統(tǒng)的經(jīng)濟學(xué)決定于以下因素：設(shè)備造價和壽命；電效率；運行中殺菌效果的降低程度；電費等。對于紫外線消毒系統(tǒng)的經(jīng)濟分析尚未做出定論，有很多結(jié)論不同的分析報道，有觀點認(rèn)為紫外線殺菌裝置電耗大，設(shè)備維護費和造價較高。對于大系統(tǒng)，設(shè)備投資比臭氧系統(tǒng)高，運行費用與臭氧相仿；但對于純凈水制造的小型系統(tǒng)投資較臭氧裝置為低。也有觀點認(rèn)為對于數(shù)千噸/日以上的處理規(guī)模，紫外線消毒系統(tǒng)的投資和運行成本很具優(yōu)勢，要比加氯和臭氧消毒的花費都低得多。例如有分析資料報道，在建造人口數(shù)為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時，紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費用的近似比例為1:4：（8~9），對于人口數(shù)大于500000的社會團體，費用比約為1:2.5:2.5。

大多數(shù)紫外線裝置利用傳統(tǒng)的低壓紫外燈技術(shù)，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統(tǒng)和中壓高強度紫外燈系統(tǒng)，由于產(chǎn)生高強度的紫外線可能使燈管數(shù)量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節(jié)約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質(zhì)較差的出水也適用。

使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時間：不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同，用紫外線消毒時使用照射劑量達到殺滅目標(biāo)微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細菌繁殖體時，應(yīng)使照射劑量達到 10000 uW.s/CM2；殺滅細菌芽胞時應(yīng)達到100000 uW.s/CM2；病毒對紫外線的抵抗力介于細菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細菌芽胞更強，有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2；在消毒的目標(biāo)微生物不詳時，照射劑量不應(yīng)低于100000 uW.s/CM2。