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EPMA-8050G 場(chǎng)發(fā)射電子探針太赫茲光譜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

從SEM觀察條件到1μA量級(jí)，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)。

詳細(xì)介紹

范圍

· 硬度標(biāo)尺：4Be~92U

· 發(fā)射源：搭載高亮度肖特基發(fā)射體

· 二次電子圖像分辨率：3nm（加速電壓30kV）

· X射線取出角角度：52.5°，限度減少X射線被吸收

· 分光晶體：全聚焦型

· X射線譜儀：高靈敏度、高分辨率型

優(yōu)點(diǎn)

1　高亮度肖特基發(fā)射體
場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流。

2　 EPMA專(zhuān)用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來(lái)形成交叉點(diǎn)的（日本：第4595778號(hào)）。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時(shí)全部電流條件下設(shè)定最合適的打開(kāi)角度，將電子束壓縮到最細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3　超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀
最多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí)，又可減小樣品對(duì)X射線的吸收，實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。