維薩拉 K-PATENTS® 半導體行業(yè)用折光儀 PR-33-S

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更新時間：2022-09-28 19:17:03瀏覽次數(shù)：138次

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維薩拉（北京）測量技術有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品簡介

該折光儀外形緊湊，流通池采用改良超純 PTFE 制成，適用于半導體液態(tài)化學品測量?？赏ㄟ^ ? 至 1 英寸的皮拉 Pillar 或擴口 Flare 連接。維薩拉 K-PATENTS® 半導體行業(yè)用折光儀 PR-33-S 用于晶圓潔凈室里的化學品濃度監(jiān)測，通常被安裝在混合、清洗、蝕刻和 (CMP) 等機臺上。PR-33-S 包含一個超純改性 PTFE 流通池主體和一根以太網(wǎng)線，任何標準的以太網(wǎng)供電 ......

詳細介紹

全數(shù)字化設備

維薩拉 K-PATENTS® 半導體行業(yè)用折光儀 PR-33-S 用于過程監(jiān)控，可提供連續(xù)的以太網(wǎng)輸出信號，設計緊湊，可直接串接在過程管路上。

滿量程下保持精確穩(wěn)定測量

折光率測量范圍 nD 1.3200–1.5300，相當于 0-99%（重量百分比）。對于高濃度 HF，可選范圍為 nD 1.2600–1.4700。標稱準確度為 R.I.+ 0.0002，通常相當于 0.1%（按重量百分比計），例如，鹽酸濃度。

測量不受顆粒、氣泡、紊流及 PPM 濃度級別微量雜質(zhì)影響。

易于維護

光學核心設計。
無漂移。無需重新校準。無需進行機械調(diào)節(jié)。

關鍵詞：折光儀

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