鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的真空設備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現(xiàn)。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空設備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。
鍍膜儀的基本技術(shù)要求說明：
1.設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應符合GB/T的規(guī)定。
2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3.如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側(cè)裝設有油蒸捕集阱。
4.設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。
5.離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6.合理布置加熱裝置，一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
5.工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。
8.離子鍍膜儀一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。
9.主要環(huán)境條件：
?、侪h(huán)境溫度：10-30℃；
②相對濕度：≤75%；
③冷卻水進水溫度：≤25℃；
④供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；
⑤設備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。
