針對(duì)電子產(chǎn)品的鹽霧試驗(yàn)，主要參照的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)包括：

1. GB/T 2423.17—2008《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分：試驗(yàn)方法 試驗(yàn)Ka：鹽霧》：這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)等同采用IEC 60068-2-11:1981，規(guī)定了電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)的鹽霧試驗(yàn)方法，適用于考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕的能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，也可以用來(lái)考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力。

2. GB/T 2423.18—2000《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分：試驗(yàn)試驗(yàn)Kb：鹽霧，交變（NaCl溶液）》：這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)涉及到鹽霧交變?cè)囼?yàn)，即在鹽霧和干燥條件之間交替變化，以模擬更加復(fù)雜的環(huán)境影響。

3. GB/T 10125-2021人造氣氛腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)：該標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)ISO 9227:2017改進(jìn)而來(lái)，提供了鹽霧試驗(yàn)的具體方法和要求，適用于各種材料在試驗(yàn)中的性能評(píng)估，但不能作為這些材料在服役中的耐蝕性的直接指南。

金屬材料腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)箱的工作條件：

1. 環(huán)境溫度：應(yīng)在0～30℃的范圍內(nèi)，以確保試驗(yàn)箱的正常運(yùn)行和精確控制。

2. 相對(duì)濕度：不大于85%R·H，避免過(guò)高濕度影響鹽霧試驗(yàn)的準(zhǔn)確性。

3. 大氣壓：應(yīng)在86～106KPa的范圍內(nèi)，保證鹽霧試驗(yàn)箱內(nèi)外壓力平衡。

4. 振動(dòng)和電磁場(chǎng)：周?chē)鸁o(wú)強(qiáng)烈振動(dòng)和強(qiáng)電磁場(chǎng)影響，以免干擾設(shè)備正常工作。

5. 避免熱源和陽(yáng)光直射：無(wú)陽(yáng)光直接照射或其它熱源直接輻射，防止溫度控制失準(zhǔn)。

6. 氣流：周?chē)鸁o(wú)強(qiáng)烈氣流，當(dāng)周?chē)諝庑鑿?qiáng)制流動(dòng)時(shí)，氣流不應(yīng)直接吹到箱體上，以免影響鹽霧的均勻分布。

7. 設(shè)備放置：試驗(yàn)機(jī)應(yīng)放置平整，保持水平，防止鹽霧外溢。

8. 維修操作空間：試驗(yàn)機(jī)的四周應(yīng)留有一定的距離，方便維修操作。

9. 單獨(dú)放置：?jiǎn)为?dú)放一隔列室，不宜與其它任何設(shè)備一并放置，以防腐蝕其它設(shè)備儀器。

10. 鹽水溶液配置：通常使用5%的氯化鈉溶液，即500g分析純氯化鈉加入10L蒸餾水中溶解，并調(diào)節(jié)pH值在6.5-7.2范圍內(nèi)。

11. 電源及空氣供應(yīng)系統(tǒng)：操作前需檢查電源及空氣供應(yīng)系統(tǒng)是否按規(guī)定接好，確保線(xiàn)路開(kāi)關(guān)接好。

12. 水位檢查：檢查飽和桶內(nèi)是否按規(guī)定要求加入水，以及實(shí)驗(yàn)室之底部及噴霧隔絕槽水之水位是否達(dá)到定位。

13. 排氧及排水系統(tǒng)：檢查排氧及排水系統(tǒng)是否依規(guī)定裝好。

金屬材料腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)箱的安裝步驟：

1. 開(kāi)箱檢查：將設(shè)備外包裝拆開(kāi)后，檢查設(shè)備是否有損傷和配件是否齊全。確認(rèn)無(wú)誤后，將設(shè)備移至預(yù)先準(zhǔn)備好的場(chǎng)所。

2. 接通電源及氣源：根據(jù)設(shè)備要求，接通電源和氣源。需要接通帶壓力的氣源才能打開(kāi)箱蓋。電源線(xiàn)標(biāo)配3米，請(qǐng)參考電源說(shuō)明配備電源接口并聯(lián)接。氣源接口需用戶(hù)自行配備8MM氣管進(jìn)行聯(lián)接，并保持氣源供應(yīng)通暢，氣壓要求0.2～0.4MPa。

3. 打開(kāi)箱蓋：小心打開(kāi)箱蓋，取出箱內(nèi)及鹽水箱內(nèi)的配件，并拆除配件的包裝。

4. 配件安裝：

• 50ml量筒安裝至固定位置。

• 箱蓋支架安裝至固定位置。

• V型樣品架安裝至箱內(nèi)V形槽處，O型樣品架安裝至箱內(nèi)U形槽處。

5. 水源連接：將純凈水或蒸餾水加入箱體內(nèi)和箱體背后的入水口，直至面板上的低水位燈滅為止。

6. 氣管連接：接通試驗(yàn)箱電源及空壓機(jī)電源，空壓氣管連接。

7. 排水閥關(guān)閉：關(guān)閉機(jī)臺(tái)排水閥。

8. 排霧管安裝：在機(jī)臺(tái)排霧口安裝排霧管，此管需連接至室外且不能折彎或有凸凹形狀。

9. 自動(dòng)入水口連接：把機(jī)臺(tái)自動(dòng)入水口與水源連接。

10. 密封水槽加水：在機(jī)臺(tái)密封水槽內(nèi)加入適量的水，水位需要蓋住密封蓋子，以免漏氣。

11. 檢查噴塔底部清洗塞子：打開(kāi)試驗(yàn)箱檢查噴塔底部清洗塞子是否塞好。

12. 藥水補(bǔ)給：將調(diào)配好的藥水倒入試驗(yàn)藥水入口，約至九分滿(mǎn)，并在水位過(guò)低時(shí)補(bǔ)充藥水以免影響試驗(yàn)結(jié)果。

選擇合適的鹽霧濃度進(jìn)行試驗(yàn)時(shí)，需要考慮以下幾個(gè)因素：

1. 試驗(yàn)?zāi)康暮蜆?biāo)準(zhǔn)：

• 根據(jù)具體的測(cè)試目的和遵循的標(biāo)準(zhǔn)來(lái)確定鹽霧濃度。例如，中性鹽霧試驗(yàn)（NSS）通常使用的是5%的氯化鈉溶液。

2. 材料類(lèi)型：

• 不同材料對(duì)鹽霧的敏感性不同。鋼、鎳、黃銅等材料在低濃度（5%以下）時(shí)腐蝕速度隨濃度增加而增加；而鋅、鎘、銅等金屬的腐蝕速度始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。

3. 環(huán)境模擬：

• 考慮產(chǎn)品的實(shí)際使用環(huán)境。如果產(chǎn)品將在海洋性氣候地區(qū)使用，可能需要選擇醋酸鹽霧試驗(yàn)（AASS）或銅加速醋酸鹽霧試驗(yàn)（CASS），因?yàn)檫@些方法能更好地模擬高鹽、潮濕的惡劣環(huán)境。

4. pH值：

• 鹽溶液的pH值對(duì)腐蝕性有顯著影響。pH值越低，溶液中氫離子濃度越高，酸性越強(qiáng)，腐蝕性也越強(qiáng)。中性鹽霧試驗(yàn)的pH值應(yīng)在6.5～7.2之間。

5. 鹽霧沉降量：

• 鹽霧沉降量也是一個(gè)重要的考慮因素。標(biāo)準(zhǔn)中性鹽霧試驗(yàn)中，鹽霧沉降率應(yīng)為1 - 2ml/80cm2·h。

6. 試驗(yàn)溫度：

• 試驗(yàn)溫度對(duì)鹽霧的腐蝕作用有顯著影響。溫度越高，鹽霧腐蝕速度越快。對(duì)于中性鹽霧試驗(yàn)，試驗(yàn)溫度通常選在35℃。

7. 噴霧方式：

• 噴霧方式（連續(xù)或間歇）也會(huì)影響鹽霧濃度的選擇。連續(xù)噴霧和間歇噴霧對(duì)樣品的腐蝕效果不同，因此需要根據(jù)具體的測(cè)試要求來(lái)確定。

8. 樣品放置角度：

• 樣品的放置角度也會(huì)影響鹽霧的沉降量和分布，進(jìn)而影響鹽霧濃度的選擇。

選擇合適的鹽霧濃度需要綜合考慮試驗(yàn)?zāi)康?、材料?lèi)型、環(huán)境模擬、pH值、鹽霧沉降量、試驗(yàn)溫度、噴霧方式和樣品放置角度等多個(gè)因素。通過(guò)這些因素的綜合考量，可以確保鹽霧試驗(yàn)的準(zhǔn)確性和有效性。