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桌面式濺射儀

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參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地

聯(lián)系方式：陳先生查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2024-04-29 09:24:03瀏覽次數(shù)：68次

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經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：582條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：陳先生 （銷售）

產(chǎn)品簡介

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動(dòng)樣品擋板，可調(diào)節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲(chǔ)存等功能，方便快捷。

詳細(xì)介紹

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源，可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行，有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

     電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長。


微信圖片_20220525093925.png

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  （可安裝φ50基底）

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa）

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口





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