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北京冠遠(yuǎn)科技有限公司
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年代劑量?jī)xDTURis/伽瑪能譜儀/能譜儀/伽瑪譜儀RisGammaSpectrometerRis閃爍伽馬能譜系統(tǒng)用于常規(guī)分析天然放射性核素活度濃度,用于測(cè)定發(fā)光年齡的劑量學(xué)計(jì)算
年代劑量?jī)xDTU Risø/伽瑪能譜儀/γ能譜儀/伽瑪譜儀
Risø Gamma Spectrometer
Risø閃爍伽馬能譜系統(tǒng)用于常規(guī)分析天然放射性核素活度濃度,用于測(cè)定發(fā)光年齡的劑量學(xué)計(jì)算。
該系統(tǒng)包括探測(cè)器、專用分析軟件和校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。
這種基于閃爍體的簡(jiǎn)單光譜測(cè)量系統(tǒng)是一種有效的實(shí)驗(yàn)室方法,可以以顯著低于高分辨率伽馬光譜法的成本測(cè)定埋藏劑量率。這一點(diǎn),再加上大樣本量(以及更具代表性的樣本量),使其成為OSL測(cè)年中使用的其他分析方法的有力競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。
檢測(cè)器
該系統(tǒng)基于一個(gè)3”×3”NAI(TL)晶體,連接到由數(shù)字脈沖處理器、電荷靈敏前置放大器、多通道分析儀(MCA)和電源組成的數(shù)字管底座。探測(cè)器和MCA都包含在10cm厚的鉛屏蔽內(nèi)。
圖為放置在保持架上的探測(cè)器,樣品已就位以供計(jì)數(shù)。
分析軟件
Risø劑量率分析儀軟件用于光譜漂移校正、40K、238U和232th效率校準(zhǔn)、活度濃度分析和劑量率計(jì)算。該軟件利用全譜分析(FSA)方法推導(dǎo)出濃度活動(dòng)。這種方法使用整個(gè)頻譜中可用的統(tǒng)計(jì)信息,因此比通常的3窗口方法更為。對(duì)于含有約250 g樣品的杯,低可檢測(cè)活性濃度為5.8 Bq/kg(40K)、0.47 Bq/kg(238U)和0.37 Bq/kg(232th)。
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)
系統(tǒng)提供一套11個(gè)浸蠟校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),包括3套單獨(dú)的40K、238U和232th標(biāo)準(zhǔn)(共9杯)、混合K、U、Th樣品和背景樣品。這些都是使用相同的鋁模具(也提供)鑄造成杯狀的幾何結(jié)構(gòu)。倒轉(zhuǎn)時(shí),這些吸盤安裝在NAI(TL)探測(cè)器的頂部。
鈾和釷標(biāo)準(zhǔn)品是通過(guò)在低活性石英砂中稀釋經(jīng)認(rèn)證的參考材料BL-5(7.09±0.03%U,NRCAN-11)或OKA-2(2.893±0.058%Th,NRCAN-22)并與高粘度蠟(瓶蠟,混合物14944,英國(guó)蠟煉公司)混合,得到約800Bq/杯的單個(gè)母體活性來(lái)制備的。對(duì)于鉀標(biāo)準(zhǔn),分析K2SO4級(jí)(假設(shè)化學(xué)計(jì)量學(xué)為14.20Bq/g,純度為100.4%)直接與蠟混合,得到約2700Bq/標(biāo)準(zhǔn)。根據(jù)嚴(yán)格的協(xié)議,這些標(biāo)準(zhǔn)已被分批次仔細(xì)編制,以實(shí)現(xiàn)低至1%的分散度,因此用戶可以在其不確定性預(yù)算中包括對(duì)不確定性的準(zhǔn)確估計(jì)。
混合的Kuth樣品(通過(guò)在K2SO4中稀釋BL-5和OKA-2制備,得到一個(gè)含有~2700 Bq 40K和~70 Bq 238U和232th的樣品杯)用作未知樣品所有光譜漂移校正的標(biāo)準(zhǔn)參考,以及校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。
背景樣品杯是用純蠟鑄造的,包括以確保以與校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)相同的方式測(cè)量背景。
規(guī)格:
帶數(shù)字MCA的3“×3”NAI(TL)探測(cè)器,661 kev(137cs)時(shí)分辨率(fwhm)為6.3%。
塑料探測(cè)器支架,用于支撐探測(cè)器
Risø劑量率分析儀軟件
鋁鑄造模具
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)
3 40K 標(biāo)準(zhǔn)
3 238U標(biāo)準(zhǔn)
3 232標(biāo)準(zhǔn)
作為光譜校正標(biāo)準(zhǔn)的1 kuth混合物
1個(gè)背景樣品
Risø鋁鑄造模具
鑄造樣品杯用鋁模。該模具與Risø γ能譜測(cè)定系統(tǒng)提供的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)鑄造用模具相同。
當(dāng)用戶準(zhǔn)備自己的樣品時(shí),使用與K,U效率校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)相同形狀和尺寸的鑄造模具,以盡量減少樣品和校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)之間形狀和尺寸差異引起的潛在不確定性。樣品應(yīng)研磨至小于200μm,并以1:2的典型質(zhì)量比(蠟:樣品)與高粘度蠟混合,以獲得250-300 g的典型樣品重量。注:一個(gè)模具作為Risø γ光譜測(cè)定系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置隨主機(jī)提供。如果用戶希望批量制備樣品,可以訂購(gòu)更多的模具。
Risø γ能譜測(cè)定系統(tǒng)的鉛屏蔽
由低污染鉛磚制成的100 mm厚鉛屏蔽。鉛屏蔽配有一個(gè)滑動(dòng)蓋,便于在裝載/卸載樣品時(shí)進(jìn)入測(cè)量室。
注:
1. 滑動(dòng)蓋將與鉛屏蔽單獨(dú)裝運(yùn)。
2. 一個(gè)鉛磚有一個(gè)特殊的插槽,允許USB電纜通過(guò)鉛屏蔽。將此專用鉛磚放置在鉛屏蔽中時(shí),請(qǐng)仔細(xì)遵循提供的鉛屏蔽組裝說(shuō)明。
圖為DTU Nutech雙引線屏蔽組件。注意:僅提供帶有匹配滑動(dòng)蓋的單引線屏蔽
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