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更新時(shí)間：2024-02-02 14:09:18瀏覽次數(shù)：156次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線The IMP-EPD is a differentially pumped, ruggedised secondary ion mass spectrometer for the analysis of secondary ions and neutrals from the ion beam etch process.
IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅(jiān)固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。的專業(yè)終點(diǎn)檢測（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程優(yōu)化監(jiān)測。
·差式泵歧管，經(jīng)連接法蘭，接到過程室
·離子光學(xué)器件，帶能量分析器和內(nèi)置離子源
·Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過壓保護(hù)
·數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過程控制工具整合
·高靈敏度的 SIMS / MS，帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器
·三級過濾四極桿，標(biāo)準(zhǔn)配置質(zhì)量數(shù)為300amu
·穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)
·通過 RS232、RS485或以太網(wǎng)， 軟件MASsoft控制
·程控DDE, 平行數(shù)字式I/O，RS232通訊
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
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