A residual gas system configured for molecular beam epitaxy applications. Measures residual gases and provides for contamination and leak detection in MBE systems.

詳細(xì)介紹

HALO 201 MBE 分子束外延殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀用于泄漏探測、趨勢分析、真空診斷的過程監(jiān)測和殘余氣體的精確分析。

該分子束外延特定分析質(zhì)譜儀由兼容性材料組成，并能在分子束外延環(huán)境中長期使用。

·鉬銅布線增加MBE環(huán)境下系統(tǒng)的壽命

·抗污染離子源護(hù)罩

·雙法拉第/ channelplate電子倍增器

·質(zhì)量數(shù)范圍： 1～300 amu

·掃描速度： 100amu/s

·最小掃描步階：0.01amu

·靈敏度： 0.1 ppm～1ppm

·穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

·最小檢測分壓：2 x 10^-13 mbar

·工作壓力：1 x 10^-4mbar

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，環(huán)保在線對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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