污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2023-07-14 19:07:38瀏覽次數(shù)：264次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線單盤雙盤產(chǎn)品特點(diǎn)1.中心加載力方式，一次性固定六個(gè)樣品，完成全部研磨拋光過(guò)程，保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面2.獨(dú)立控制磨拋盤和樣品盤：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整，靈活方便
1.中心加載力方式，一次性固定六個(gè)樣品，完成全部研磨拋光過(guò)程，保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面
2.獨(dú)立控制磨拋盤和樣品盤：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)；
3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；
4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整，靈活方便。
5.通過(guò)用電磁閥來(lái)控制水的通斷。
6.輕松更換磁性防粘盤，就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤等效于N個(gè)盤。
7.精度高，運(yùn)行平穩(wěn)，噪音低。
8.樣品磨去層厚度控制：精準(zhǔn)控制樣品的磨去量，磨到位置 (選配);
9.外部滴液器控制：外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (選配);
| 規(guī)格 | WMP-1000X | WMP-2000X | |
| 工位 | 單盤 | 雙盤 | |
| 工作盤直徑 | 標(biāo)配φ254mm帶有磁性轉(zhuǎn)換盤系統(tǒng) | ||
| 磨盤轉(zhuǎn)速 | 100-1000轉(zhuǎn)/分 轉(zhuǎn)向正反轉(zhuǎn)可以切換 | ||
| 研磨頭轉(zhuǎn)速 | 0-100r/min | ||
| 制樣時(shí)間范圍 | 0-9999s | ||
| 加載力范圍 | 30-200N | ||
| 加載力方式 | 中心加載 | ||
| 樣品夾持器 | 標(biāo)配φ30mm六個(gè)（選配φ40-φ50mm四個(gè)，其余可定制） | ||
| 電源 | AC220V，50HZ | ||
| 電機(jī)功率 | 0.75Kw | ||
| 外形尺寸（長(zhǎng)*寬*高） | 760 x 470 x 700 | 760 x 730 x 700 | |
| 重量 | 90kg | 120kg | |
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