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觸摸屏全自動(dòng)磨拋機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

單盤(pán)雙盤(pán)產(chǎn)品特點(diǎn)1.中心加載力方式，一次性固定六個(gè)樣品，完成全部研磨拋光過(guò)程，保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面2.獨(dú)立控制磨拋盤(pán)和樣品盤(pán)：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)；3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整，靈活方便

詳細(xì)介紹

單盤(pán) 雙盤(pán)

產(chǎn)品特點(diǎn)

1.中心加載力方式，一次性固定六個(gè)樣品，完成全部研磨拋光過(guò)程，保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面
2.獨(dú)立控制磨拋盤(pán)和樣品盤(pán)：轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù)；
3.觸摸屏界面：磨拋參數(shù)設(shè)定方便，狀態(tài)顯示直觀，操作簡(jiǎn)單；
4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整，靈活方便。
5.通過(guò)用電磁閥來(lái)控制水的通斷。
6.輕松更換磁性防粘盤(pán)，就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤(pán)等效于N個(gè)盤(pán)。
7.精度高，運(yùn)行平穩(wěn)，噪音低。
8.樣品磨去層厚度控制：精準(zhǔn)控制樣品的磨去量，磨到位置 (選配);
9.外部滴液器控制：外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (選配);

主要參數(shù):

規(guī)格	WMP-1000X		WMP-2000X
工位	單盤(pán)		雙盤(pán)
工作盤(pán)直徑	標(biāo)配φ254mm帶有磁性轉(zhuǎn)換盤(pán)系統(tǒng)
磨盤(pán)轉(zhuǎn)速	100-1000轉(zhuǎn)/分轉(zhuǎn)向正反轉(zhuǎn)可以切換
研磨頭轉(zhuǎn)速	0-100r/min
制樣時(shí)間范圍	0-9999s
加載力范圍	30-200N
加載力方式	中心加載
樣品夾持器	標(biāo)配φ30mm六個(gè)（選配φ40-φ50mm四個(gè)，其余可定制）
電源	AC220V，50HZ
電機(jī)功率	0.75Kw
外形尺寸（長(zhǎng)寬高）	760 x 470 x 700	760 x 730 x 700
重量	90kg	120kg