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深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)TS-PL1000
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廠商性質(zhì)其他
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更新時(shí)間:2023-03-15 08:50:33瀏覽次數(shù):230次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線真空等離子清洗機(jī)TS-PL1000
型號(hào) | TS-PL1000 |
外形尺寸(mm) | W2000*D1600*H1730 |
真空腔體(mm) | W1050*D1000*H950 |
真空系統(tǒng) | 雙極真空泵組 |
等離子電源 | 10KW連續(xù)調(diào)節(jié) |
控制方式 | PLC+觸摸屏 |
工作電極 | 16套 |
真空度 | 10-100Pa |
陶瓷封裝 | 進(jìn)口高頻陶瓷 |
額定功率 | 20KW |
重量 | 1000Kg |
由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn):容易采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
與濕法清洗相比,等離子清洗的優(yōu)勢表現(xiàn)在以下8個(gè)方面:
1、在經(jīng)過等離子清洗以后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
2、不使用ODS有害溶劑,清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。
3、用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同,它的方向性不強(qiáng),因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),所以不多考慮被清洗物體形狀的影響,而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。
4、整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成,因此具有效率高的特點(diǎn)。
5、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種真空度在工廠實(shí)際生產(chǎn)中很容易實(shí)現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用價(jià)格昂貴的有機(jī)溶劑,因此它的運(yùn)行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。
6、由于不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。
7、等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)是:它不分處理對(duì)象,可處理不同的基材,無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理,因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。
8、在完成清晰去污的同時(shí),還能改變材料本身的表面性能,如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
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