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DOE掩膜

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DOE掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔徑，它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很薄（~1μm）的圖案反射涂層。

詳細(xì)介紹

DOE掩膜，可消除不需要的高衍射級(jí)次光學(xué)

DOE掩膜

DOE掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔徑，它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很?。?span lang="EN-US">~1μm）的圖案反射涂層。

DOE掩膜的典型參數(shù)

外直徑	5 - 100 mm
孔的形狀	圓形、方形、多孔徑，其他
孔徑尺寸	10 um - 60 mm
波長(zhǎng)范圍	193 - 11000 nm
Transfer Region	Small; sharp edges
SNR	~500
Shape size	>5 um

衍射高級(jí)次消去膜通常分為兩種不同類型的掩膜

一種是電介質(zhì)反射掩膜

電介質(zhì)反射掩模，英文名為Dielectric Reflective Mask，是在熔融石英的基底上，鍍一層由非常?。?1um）的反射涂層圖案。涂層部分反射入射光束，而未涂層部分透射光束。

電介質(zhì)反射掩膜的特性：

針對(duì)單波長(zhǎng)設(shè)計(jì)，高損傷閾值，低吸收率

反射部分，> 99％的高反射率

透明部分，> 95％的高透射率

很薄的掩膜層(~1um)

另一種是透射成像掩模

透射成像掩膜，英文名為Transmissive Imaging Mask，透射式掩模的特點(diǎn)是透射全部入射光，沒有任何阻擋，透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下：

中心有一個(gè)和反射式掩膜類似的透明區(qū)域，光線直接透過，周圍區(qū)域具有衍射圖案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡后焦平面放置的小孔，就可以阻擋大部分漫射光，從而達(dá)到阻擋多余激光的效果。

透射掩膜的特點(diǎn)：

不會(huì)有反射光的風(fēng)險(xiǎn)，導(dǎo)致?lián)p壞光學(xué)系統(tǒng)

~100％傳輸效率

比反射式掩模更高的激光損傷閾值

價(jià)格實(shí)惠

DOE掩膜的應(yīng)用領(lǐng)域：

縮減傳輸區(qū)域，設(shè)置一個(gè)很小的傳輸區(qū)域

控制激光衍射圖案的大小

DOE掩膜的型號(hào)規(guī)格：

型號(hào)	直徑 (mm)	孔徑尺寸(um)	孔徑形狀	材質(zhì)
DM-017	85	50075	Square	熔融石英
DM-010	25.4	5680	Round	熔融石英
DM-004	25.4	1750	Square	熔融石英
DM-009	25.4	6200	Round	熔融石英
DM-019	25.4	300	Square	熔融石英
DM-007	25.4	10838	Round	熔融石英
DM-006	25.4	7000	Square	熔融石英
DM-005	25.4	3500	Square	熔融石英
DM-008	20	8428	Round	熔融石英
DM-016	11	5400	Round	熔融石英
DM-015	11	3000	Round	熔融石英
DM-014	11	4214.9	Round	熔融石英
DM-013	11	2408	Round	熔融石英
DM-012	11	3612	Round	熔融石英
DM-011	11	4817	Round	熔融石英
DM-003	11	165	Square	熔融石英
DM-002	11	65	Square	熔融石英