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SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉(zhuǎn)靶頭）

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更新時間：2023-06-30 20:22:36瀏覽次數(shù)：153次

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產(chǎn)品簡介

SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉(zhuǎn)靶頭）

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介：SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉(zhuǎn)靶頭）適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性?？膳cDC或RF電源配合使用。

產(chǎn)品型號	SKCC-GZB-X（高真空磁控濺射公、自旋轉(zhuǎn)靶頭）
產(chǎn)品規(guī)格	1寸，SKCC-GZB-1 2寸，SKCC-GZB-2 3寸，SKCC-GZB-3 4寸，SKCC-GZB-4 注：其它尺寸可以訂制
主要特點(diǎn)	1、轉(zhuǎn)靶帶擋板（可實(shí)現(xiàn)每次露出一個工作的靶，避免交叉污染）； 2、采用電磁場的有元計(jì)算法來設(shè)計(jì)永磁體，以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布； 3、轉(zhuǎn)靶轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分可調(diào)； 4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配； 5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭（CF金屬密封或Dg膠圈密封可選）； 6、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度。
配套電源	1、直流DC；2、射頻RF