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SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）

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更新時間：2023-06-30 20:25:31瀏覽次數(shù)：264次

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產(chǎn)品簡介

SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）

詳細介紹

產(chǎn)品簡介：SKCC-ZZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（自旋轉(zhuǎn)靶頭）適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性?？膳cDC或RF電源配合使用。

產(chǎn)品型號	SKCC-ZZB-X（高真空磁控濺射自旋轉(zhuǎn)靶頭）
產(chǎn)品規(guī)格	2寸，SKCC-ZZB-2 3寸，SKCC-ZZB-3 4寸，SKCC-ZZB-4 5寸，SKCC-ZZB-5 6寸，SKCC-ZZB-6 7寸，SKCC-ZZB-7
主要特點	1、轉(zhuǎn)靶帶擋板（可電動控制，可手動控制）； 2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強度和均勻分布； 3、轉(zhuǎn)靶轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分可調(diào)； 4、標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配。 5、安裝采用標準真空接頭，便于操作。 6、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度。
配套電源	1、直流DC；2、射頻RF