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沈陽科晶自動化設備有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW
產品詳細介紹： 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。(更新日期2019.1.10）
| 產品型號 | 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：需要（可選配我公司冷水機）。 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（帶減壓閥） 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，,承重50kg以上 5、通風裝置：需要 |
| 產品特點 | 1、可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾，達到粉體表面均勻包覆 2、設備小巧可在手套箱內使用，可處理樣敏感性材料 |
| 技術參數 | 1、輸入電壓：220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、電流：150 mA . 4、濺射頭：2英寸角度可調節(jié)濺射頭 5、振動樣品臺： 樣品臺振動頻率可調節(jié)：6-33Hz 樣品臺直徑為50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸：165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度： ①1.0E-2 Torr（采用機械泵），可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶真空度可達到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統(tǒng)抽時間12小時，腔體進行烘烤） 7、CE認證 |
| 產品規(guī)格 | 外形尺寸：長460×寬330×高810mm 凈重：20Kg |
| 注意事項 | 警告： 1、濺射頭與高壓電源相連接，操作時必須佩帶防護手套 2、濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗，Al或是Ni靶每次使用時都必須清洗和處理 注意：粉末樣品必須干燥和分散 |
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