產(chǎn)品介紹INTRODUCTION1.程序升溫脫附（TPD）2.程序升溫還原（TPR）3.程序升溫氧化（TPO）4.程序升溫表面反應(yīng)（TPSR）5.程序升溫硫化（TPS）6.脈沖滴定7.BET比表面積報(bào)告內(nèi)容1.吸附劑表面活性中心類型根據(jù)脫附峰的數(shù)量來判定活性中心的種類，一個(gè)峰即對(duì)應(yīng)一種活性中心

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹INTRODUCTION

1.程序升溫脫附（TPD）

2.程序升溫還原（TPR）

3.程序升溫氧化（TPO）

4.程序升溫表面反應(yīng)（TPSR）

5.程序升溫硫化（TPS）

6.脈沖滴定

7.BET 比表面積

報(bào)告內(nèi)容

1.吸附劑表面活性中心類型

根據(jù)脫附峰的數(shù)量來判定活性中心的種類，一個(gè)峰即對(duì)應(yīng)一種活性中心。

2.不同類型活性中心的數(shù)目

根據(jù)峰面積來計(jì)算每一種活性中心的數(shù)量。

3.活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合強(qiáng)度

根據(jù)脫附峰Tm 的大小判定活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合鍵能的強(qiáng)弱，Tm 越大鍵能越大。

4.吸附及脫附活化能

根據(jù) Wigner-Polanyi 模型求得脫附活化能；同時(shí)根據(jù)其擴(kuò)展公式可求得吸附及脫附動(dòng)力學(xué)和熱力學(xué)的全部參數(shù)。

5.金屬分散度

金屬分散度是指催化劑表面金屬原子與催化劑總金屬原子數(shù)的比值，計(jì)算公式如下：

上式中 DM 為金屬分散度，Va 為標(biāo)況下吸附的吸附質(zhì)氣體的體積單位為 L， N0 為阿伏

伽德羅常數(shù)，W(g)為催化劑總質(zhì)量，P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù)，M 為金屬的相對(duì)分子量，Sloop 為定量環(huán)產(chǎn)生的峰面積，Vloop 為定量環(huán)標(biāo)況下的體積，Si 為每次脈沖滴定產(chǎn)生的峰面積。

6.活性金屬表面積

活性金屬原子面積總和與催化劑中所有金屬原子質(zhì)量比

上式中 SM (m2/g)為活性金屬表面積，n 為吸附劑與吸附質(zhì)氣體分子的系數(shù)，Va(L)為吸附質(zhì)

氣體體積， N0 為阿伏伽德羅常數(shù)， S0 （nm2）為金屬橫截面積，W(g)為催化劑總質(zhì)量，P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。

7.平均粒徑大小

d（Å）催化劑中活性金屬平均粒徑，Sm（m2/g）催化劑活性比表面積，ρ（g/cm3）催化劑金屬密度。

關(guān)鍵詞：吸附劑催化劑

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