雖然所有離子束都會(huì)濺射或蝕刻，但我們的一些系統(tǒng)的表面是專(zhuān)為高效和快速濺射而設(shè)計(jì)的。濺射光束有三個(gè)特點(diǎn)：高電流、大光斑尺寸和寬視場(chǎng)。這些特性的結(jié)合意味著它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子，以?xún)?yōu)化蝕刻速率。

詳細(xì)介紹

C60-20S是一種高性能離子束，設(shè)計(jì)用于濺射表面，具有小的損傷和減少的沿周濺射效應(yīng)。 C60-20S在高達(dá)20 kV的電壓下工作，可有效地濺射材料，且損傷小，無(wú)需重新沉積碳。 C60是XPS、AES和SIMS的理想升級(jí)組件，可在多種材料上均勻?yàn)R射。

聚合物的高速、低化學(xué)損傷蝕刻。

C60離子濺射的速度比單原子束(包括氬和氙)快50倍，同時(shí) 對(duì)底層材料造成的損害要小得多。下圖比較了15kev的C60濺射產(chǎn)率與15kev金、氙鎵和氬的 TRIM數(shù)據(jù)。在相反的例子中，用C60和單原子氬離子束濺射清洗PTFE薄膜。雖然兩種離子束都去除了表面污染，但只有C60離子束的表面化學(xué)性質(zhì)沒(méi)有發(fā)生變化。

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C60-20S 離子源系統(tǒng)

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