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EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀

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產(chǎn)品型號EscaLab 250Xi

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更新時(shí)間：2023-09-22 10:42:29瀏覽次數(shù)：425次

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產(chǎn)品簡介

Escalab250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量

詳細(xì)介紹

Escalab 250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲得元素及化學(xué)態(tài)深度分布信息；通過成像技術(shù)可以獲得元素及化學(xué)態(tài)的面分布信息；利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導(dǎo)體、納米材料、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。本儀器以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有俄歇電子能譜、紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能。主要功能特點(diǎn)如下：

1． 常規(guī)XPS，鑒別樣品表面的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量。雙陽極XPS，更適合用于不同的特殊過渡金屬元素的研究，如催化領(lǐng)域。

2． 微區(qū)XPS分析（單色化XPS），用于樣品微區(qū)（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化學(xué)態(tài)分析

3． 深度剖析XPS，結(jié)合離子刻蝕技術(shù)對樣品（如薄膜等）進(jìn)行成分深度分布分析。通過角分辨XPS還可以進(jìn)行非損傷成分深度分布分析。

4． XPS成像，可以對元素或化學(xué)態(tài)進(jìn)行表面面分布分析，使一些分析結(jié)果更直觀。

5． 反射電子能量損失譜REELS技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)氫元素的檢測。

6． 離子能量損失譜ISS，可實(shí)現(xiàn)樣品表面元素信息的檢測

7． 場發(fā)射俄歇AES，可實(shí)現(xiàn)樣品表面100nm尺寸下的元素信息檢測?？梢赃M(jìn)行成分分析、形貌像分析及掃描俄歇像分析等。

8． 紫外光電子能譜（UPS），可以獲得樣品價(jià)帶譜信息，對導(dǎo)體、半導(dǎo)體的能帶、帶隙等分析提供主要數(shù)據(jù)。還可以分析樣品逸出功等。


技術(shù)參數(shù)：

1. 極限能量分辨率 0.43eV

2. 分析室真空度優(yōu)于 5×10-10mbar

3. 能量分析范圍 0-5000eV

4. 通過能范圍 1-400eV

關(guān)鍵詞：能譜儀

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