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Zeta納米粒度儀

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更新時間:2022-12-21 15:15:35瀏覽次數:307次

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產品簡介

型號:Nicomp380Z3000Basic儀器型號:Z3000Basic工作原理:粒度分布:動態(tài)光散射儀(DynamicLightScattering,DLS)ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS)檢測范圍:粒徑范圍0

詳細介紹

型號:
Nicomp 380 Z3000 Basic

儀器型號:Z3000 Basic

工作原理: 粒度分布:動態(tài)光散射儀(Dynamic Light Scattering, DLS)

ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)

檢測范圍: 粒徑范圍 0.3nm-10.0μm

ZETA電位 +/- 500mV

產品介紹:Nicomp 380 Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經典型號380ZLS&S基礎上升級配套而 來,采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,同機采 用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)檢測ZETA電 位。粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm,ZETA電位檢測范圍為+/- 500mV。其配套粒度分析軟件復 合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和擁有技術的 Nicomp 多峰算法,對于多組分、粒徑 分布不均勻分散體系的分析具有優(yōu)勢。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極, 一個電極可以使用成千上萬次。另外,采用可變電場適應不同的樣品檢測需求。既保證檢測精 度,亦幫用戶大大節(jié)省檢測成本。

未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

儀器參數:

1、粒徑檢測范圍 0.3nm-10μm

2、分析方法 動態(tài)光散射,Gaussian單峰算法和 Nicomp多峰算法

3、pH值范圍 1-14

4、溫度范圍 0℃-90 ℃

5、激光光源 15mW激光光源

6、檢測角度 90°

7、檢測器 APD(雪崩二極倍增管,可3-5倍增益放大)PMT(高性能光電檢測器)

8、可用溶劑 水相,絕大多數有機相

9、樣品池 標準4 mL樣品池(1cm×4cm,高透光,石英玻 璃或塑料); 1mL樣品池(玻璃,高透光率微量樣品池)

10、分析軟件 必配科研級軟件; 符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件(可 選)

11、驗證文件

12、電壓 220–240VAC,50Hz或100–120VAC,60Hz

13、外形尺寸 56 cm * 41 cm * 24cm

1、重量 26kg(與配置有關)

技術優(yōu)勢:

1、PMT高靈敏度檢測器;

2、可搭配不同功率光源;

3、雙列直插式電極和樣品池,可反復使用成千上萬次;

4、鈀電極;

5、精確度高,樣品真實值;

6、復合型算法: 高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換 相位分析法(PALS)和頻譜分析法(FALS)自由切換

7、快速檢測,可以追溯歷史數據;

8、結果數據以多種形式和格式呈現;

9、符合USP,CP等個多藥典要求;

10、無需校準;

11、復合型算法: (1)高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換

12、模塊化設計便于維護和升級;

1)可自動稀釋模塊(選配);

2)搭配多角度檢測器(選配);

3)自動進樣系統(tǒng)(選配);

應用領域

1、納米載藥:納米藥物研究近些年主要著重在藥物的傳遞方向并發(fā)展迅猛,納米粒的大小可以有效減少毒性和副作用。所以,控制這些納米粒的粒徑大小是非常必要的。

2、磨料磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現對硬度較低材料的磨削。磨料的質量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

3、化學機械拋光液(CMP SLURRY)化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟。化學機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分 組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構 型。晶片的加工誤差通常以埃計,對晶片質量至 關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有 利于化學機械拋光加工過程的順利進行。

4、陶瓷陶瓷在工業(yè)中的應用非常廣泛,從磚瓦到生物醫(yī) 用材料及半導體領域。在生產加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產品的性能和質量。

5、粘土粘土是一種含水細小顆粒礦物質天然材料。粉砂 與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

6、涂料涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質量和性能。

7、污染物監(jiān)測:粒度檢測分析在產品的污染監(jiān)測方面起著重要作用,產品的污染對產品的質量影響巨大。絕大多數行業(yè)都有相應的標準、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴格遵守和執(zhí)行,以保證產品滿足質量要求。

8、化妝品:無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關。化妝品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的 粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗 的作用。

9、乳劑乳劑是兩種互不相溶的液體經乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質化處理到所需的粒徑大小以期延長保質期。

10、食品食品的原料(粉末及液體)通常來源于不同的加工廠,不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使最終制品的質量均一穩(wěn)定。原料性質的任何 波動都會對食品的口味和口感產生影響。用原料的粒度分布作為食品質量保證和質量控制(QA/QC)的一個指標可確保生產出質量均以穩(wěn)定的食品制品。

11、液體工作介質/液體工作介質(如:油)越來越昂貴,延長液體 介質的壽命是目前普遍關心的問題。機械設備運轉過程中會產生金屬屑或顆粒落入工作介質中(如:油浴潤滑介質或液力傳遞介質),因此需要一種方法來確定介質(油)的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質的周期以及延長其使用壽命。

12、墨水:隨著打印機技術的不斷發(fā)展,打印機用的墨水變 得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制 在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于 堵塞打印頭并影響打印質量。墨水是通過研磨方 法制得的,可用粒度檢測分析儀器設備監(jiān)測其研磨加工過程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產生聚集的大顆粒。

13、膠束膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后,其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質點微粒,這種膠體質點與離子之間處于平衡狀態(tài)。乳液、色漆、制藥粉體、顏料、 聚合物、蛋白質大分、二氧化硅以及自組裝TiO2 納米管(TNAs)等

關鍵詞:激光粒度儀
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