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磐石創(chuàng)新（江蘇）電子裝備有限公司
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更新時間：2022-10-22 16:43:14瀏覽次數(shù)：443次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室（500H430mm），永磁圓形平面靶，真空系統(tǒng)，旋轉(zhuǎn)加熱基片臺，氣路系統(tǒng)，電氣控制及報警保護系統(tǒng)等組成。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室（φ500×H430mm），永磁圓形平面靶，真空系統(tǒng)，旋轉(zhuǎn)加熱基片臺，氣路系統(tǒng)，電氣控制及報警保護系統(tǒng)等組成。
設(shè)備特點及主要用途
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由真空專用不銹鋼腔室、四只3英寸圓形平面磁控靶；直流、射頻濺射電源各一臺。機械泵+分子泵高真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)、加熱基片臺（室溫至300±1℃可調(diào)可控）、機架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護等組成。該設(shè)備選配電源可具備四靶共濺射功能，實現(xiàn)一機多用，可開發(fā)納米級單層或多層的導電膜、金屬膜、半導體膜、絕緣膜等。整機結(jié)構(gòu)緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。
技術(shù)參數(shù)
| 真空腔室 | φ500×H430mm |
| 真空系統(tǒng) | 復合分子泵+直聯(lián)旋片泵,氣動真空閥門 |
| 真空極限 | 優(yōu)于8.0×10-5Pa |
| 抽速 | 從大氣抽至6.0×10-3Pa≤15min |
| 基片臺 | 基片臺尺寸：φ150mm |
| 基片加熱與旋轉(zhuǎn) | 襯底加熱：室溫～300℃，自動測溫，PID控溫；基片旋轉(zhuǎn)：0-50轉(zhuǎn)/分鐘，可調(diào)可控 |
| 濺射靶規(guī)格 | 3英寸，四只 |
| 膜厚不均勻性 | ≤±5% |
| 控制方式 | 手動按鈕控制；（自動控制可選） |
| 報警及保護 | 缺水報警，強制水冷，過流過壓等異常情況自動執(zhí)行保護功能 |
| 占地面積 | 長×寬: 1700×1600mm |
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