NR7-1000P NR9-1000P NR5-8000 Futurrex紫外負性光刻膠

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更新時間：2023-06-16 12:47:08瀏覽次數(shù)：219次

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深圳市科時達電子科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

Futurrex紫外負性光刻膠NR7-1000PNR9-1000PNR5-8000可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠特性厚度范圍lt;0.1-120.0µm對波長小于380nm的靈敏度優(yōu)于表面拓撲的線寬控制直側(cè)壁適合任何膜厚能夠在單次旋涂中涂覆100µm厚的膜由于應用了150°C的軟烘烤

詳細介紹

Futurrex紫外負性光刻膠NR7-1000P NR9-1000P NR5-8000

可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠

特性
厚度范圍 lt; µm
對波長小于380nm的靈敏度
優(yōu)于表面拓撲的線寬控制
直側(cè)壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應用了150°C的軟烘烤，烘烤時間更短（對于厚膜至關(guān)重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，從而提高蝕刻速率和蝕刻產(chǎn)量
消除使用粘合促進劑
RIE /離子耐高溫厚度濕法蝕刻厚度
增強附著力
NR7-250P NR9-250P
NR7-1000P NR9-1000P

NR7-1500P NR9-1500P
NR7-3000P NR9-3000P
NR7-6000P NR9-6000P
NR5-8000 NR9-8000P μm-100um
耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫耐溫性= 100°C。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑 NR9系列抗蝕劑具有增強的附著力
在25°C時易于剝離。
Futurrex NR5-8000，：1 AR

抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm線/間隔
曝光劑量：1100 mJ / cm 2。
焦點偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步進土星
模型，i-line
另有：NR9G g和h線曝光用粘度增強具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
NR71G g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應用并能作為隔層