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芬蘭Picosun 原子層沉積機(jī)P-300S Pro ALD

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更新時(shí)間：2023-06-16 19:02:31瀏覽次數(shù)：163次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)P-300SProALD技術(shù)參數(shù)工藝溫度：50-500°C襯底尺寸和類(lèi)型：300mm晶圓/單片基片傳送選件：

詳細(xì)介紹

芬蘭Picosun 原子層沉積機(jī)P-300S Pro ALD

技術(shù)參數(shù)

工藝溫度： 50 - 500 °C

襯底尺寸和類(lèi)型：300mm晶圓/單片

基片傳送選件：

。半自動(dòng)裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實(shí)現(xiàn)
。25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

標(biāo)準(zhǔn) ：SEMI S2認(rèn)證

前驅(qū)體：

。液態(tài)，固態(tài)，氣態(tài)，臭氧源
。等離子體（僅供200mm晶圓使用，最多4路氣體）
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。6條獨(dú)立源管線,最多加載8個(gè)前驅(qū)體源（最多12個(gè)前驅(qū)體源，加上plasma管路共7根獨(dú)立源管線）

重量：820 kg

尺寸：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

選件：集群工具，PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)，N2發(fā)生器，尾氣處理，定制設(shè)計(jì)，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) ：

。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為Al2O3工藝，
。其他工藝可具體協(xié)商：其他工藝、應(yīng)用具體驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)如：
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學(xué)性能