污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京億路達(dá)機(jī)電設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)7700
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時(shí)間:2022-11-16 15:32:11瀏覽次數(shù):145次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)Agilent 7700系列ICP-MS
儀器簡(jiǎn)介:
無(wú)論您是想以的速度分析成百上千個(gè)基體復(fù)雜的樣品,還是想要獲得高純?cè)噭┲谐哿侩s質(zhì)的最可信結(jié)果,安捷倫7700 系列ICP-MS 都能助您滿(mǎn)足當(dāng)前以及未來(lái)的分析需求。
安捷倫7700 系列ICP-MS – ICP-MS 儀器的新面孔–是小的商品化ICP-MS。作為的安捷倫7500 系列ICP-MS的繼承者,7700性能在各方面更勝:分析速度更快、操作更簡(jiǎn)便、靈敏度更高、背景噪音更低、消干擾效果更佳、應(yīng)用面更廣、維護(hù)更方便。7700x具有適應(yīng)多種樣品類(lèi)型、應(yīng)用范圍廣泛、性能穩(wěn)定耐用的特點(diǎn),是大多數(shù)常規(guī)實(shí)驗(yàn)室和分析大批量樣品的商業(yè)實(shí)驗(yàn)室的選擇。7700s 則是專(zhuān)為半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用而設(shè)計(jì),具有半導(dǎo)體針對(duì)性的強(qiáng)大功能。這兩種型號(hào)都具有的性能和易于使用的優(yōu)點(diǎn),即使您面對(duì)的是最棘手的樣品基體,它們都能為您獲取值得信賴(lài)的分析結(jié)果。
7700系列ICP-MS不但配置了新的軟件平臺(tái),而且在儀器硬件方面也進(jìn)行了革新設(shè)計(jì),包括全新數(shù)字控制式射頻匹配的RF發(fā)生器和第三代八極桿碰撞/反應(yīng)池系統(tǒng)(ORS3)。安捷倫7700x ICP-MS 憑借第三代碰撞/ 反應(yīng)池(ORS3) 為復(fù)雜高基體樣品的分析提供了的準(zhǔn)確性,它革命性地重新定義了碰撞/反應(yīng)池:僅使用氦氣碰撞即可消除所有可能的質(zhì)譜干擾!
1. 靈敏度:
低質(zhì)量數(shù) Li(7): 50 Mcps/ppm;
中質(zhì)量數(shù) Y(89): 160 Mcps/ppm(7700x); 240 Mcps/ppm(7700s) ;
(高質(zhì)量數(shù) Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x); 120 Mcps/ppm(7700s);
根據(jù)用戶(hù)特殊需求,如激光、核工業(yè)、半導(dǎo)體材料等應(yīng)用,可提供超高靈敏度功能
2. 檢測(cè)限:
低質(zhì)量數(shù) Be(9): 0.5 ppt;
中質(zhì)量數(shù) In(115): 0.1 ppt
高質(zhì)量數(shù) Bi(209): 0.1 ppt
3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+: 1.5 %(7700x); 3.0 %(7700s);
4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+: 3.0 %
5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 質(zhì)譜范圍:2 - 260 amu;
7 豐度靈敏度
低質(zhì)量端: 5 x 10-7
高質(zhì)量端: 1 x 10-7
尺寸最小的ICP-MS
靈敏度的碰撞池-第三代ORS3
的純 He 氣碰撞池:只用He氣就可以消除所有干擾。
最耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(shù)(TDS>3%)
的ICP離子源技術(shù):的數(shù)字控制式諧頻ICP發(fā)生器
有機(jī)溶劑進(jìn)樣不熄火!
分析速度:ISIS-DS技術(shù)
最容易維護(hù)和清洗
的色譜聯(lián)機(jī)功能:真正的一體化
功能最多的軟件:MassHunter系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)QA/QC
偏移標(biāo)示,自動(dòng)化控制等
注:對(duì)于科研類(lèi)產(chǎn)品,請(qǐng)先查證核實(shí)企業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)和科研產(chǎn)品注冊(cè)證情況
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