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八帆儀器設(shè)備有限公司


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校準(zhǔn)標(biāo)樣

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更新時間：2024-02-18 13:31:07瀏覽次數(shù)：240次

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產(chǎn)品簡介

校準(zhǔn)標(biāo)樣

詳細(xì)介紹

校準(zhǔn)標(biāo)樣

高分辨率校準(zhǔn)標(biāo)樣:綜述

Applied Nanotools為分辨率應(yīng)用提供X射線，EUV和可見光顯微鏡的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。 這些高質(zhì)量的光學(xué)元件包括各種校準(zhǔn)元件，可在以下SEM圖像中看到：

ANT Design

ANT校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的分辨率要求。適用于軟X射線和硬X射線機(jī)制以及光學(xué)設(shè)置。

Nested Ls

嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量，保證間距和效率。在高分辨率標(biāo)準(zhǔn)下低至15 nm半間距。

Siemen star

該圖案允許校準(zhǔn)和準(zhǔn)確比較X射線與其他成像方法的光學(xué)分辨率。

NanoUSAF 1951

Applied Nanotool的定制設(shè)計NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計，但具有納米而非微米的特征

價格列表

Device Base Price
 Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au)

(15 nm half pitch)

 USD $5000
 Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au)

(20 nm half pitch or better)

 USD $4500
 Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au)

(25 nm half-pitch or better)

 USD $6000
Features Include:

     ? Nested L’s

     ? Siemen star patterns (large and small)

     ? Varying pitch gratings and meshe

     ? Nano USAF 1951

  
  Customization Extra Fee
     ? Custom Logo (Max 50 µm 2 area) $1000
     ? Low stress 50 nm silicon nitride membrane $2000
     ? Low stress 100 nm silicon carbide membrane $2500
     ? Fused Silica Substrate (~500 um thick)

Chrome metal on glass (positive tone-only)

 $2500

Negative polarity (features transparent)

     ? 30 nm minimum feature size (soft X-ray)

     ? 50 nm minimum feature size (hard X-ray)

 $1250
     ? Custom chip sizes Contact us

定制膜/基材

校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡。

 校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。
 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡

定制設(shè)計

定制設(shè)計可添加具有高分辨率功能的設(shè)施徽標(biāo)（建議最小元件尺寸為50 nm）。 必須以GDSII，EPS或矢量格式提供圖形以獲得分辨率。如果您需要有關(guān)徽標(biāo)提交的幫助，請與我們聯(lián)系。
 高分辨率ANT徽標(biāo)，20納米特征，電鍍至200納米

總體布局

 注：最終設(shè)計可能不如圖所示。

關(guān)鍵詞：顯微鏡 光學(xué)顯微鏡
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