北京吉天儀器有限公司主營(yíng)：原子熒光光度計(jì),流動(dòng)注射分析儀
ICP光譜儀如何保養(yǎng)？
(1)ICP光譜儀及光學(xué)系統(tǒng)維護(hù)，是進(jìn)樣系統(tǒng)中精密，關(guān)鍵的部份，需要很好的維護(hù)和使用。在測(cè)定完樣品后，特別是測(cè)定高鹽溶液之后，的頂部以及炬管?chē)娮於紩?huì)有積鹽份，會(huì)造成氣溶膠的通道不暢，—般是出現(xiàn)檢測(cè)出來(lái)的元素強(qiáng)度下降，儀器反射功率升高等，當(dāng)儀器提示運(yùn)行光學(xué)初始化時(shí)，須先做光學(xué)初始化。
(2)其他。每次開(kāi)機(jī)前，應(yīng)事先計(jì)劃好實(shí)驗(yàn)方案，做好準(zhǔn)備工作，避免在一段時(shí)間內(nèi)反復(fù)開(kāi)機(jī)，因?yàn)槊看伍_(kāi)機(jī)時(shí)，其瞬間通過(guò)的電流要遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于正常工作時(shí)的電流，可能造成某些元件的過(guò)早老化。icp光譜儀是需要定期維護(hù)地設(shè)備,這樣才能保證設(shè)備地正常運(yùn)行和經(jīng)久耐用。
ICP光譜儀行業(yè)在迅速發(fā)展
已進(jìn)入科技信息化時(shí)代，科技技術(shù)革命正在逐步滲透到經(jīng)濟(jì)社會(huì)的各個(gè)產(chǎn)業(yè)，而分析行業(yè)同樣在迅速發(fā)展。越來(lái)越多企業(yè)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的要求越來(lái)越高，ICP光譜儀器設(shè)備也成為時(shí)代發(fā)展下提升產(chǎn)品質(zhì)量的新風(fēng)向。
隨著工業(yè)的發(fā)展和產(chǎn)品要求的提高，研發(fā)新型和性能金屬材料的需求日益增加，各種痕量元素的測(cè)定變得愈加重要。
同時(shí)，傳統(tǒng)的化學(xué)分析方法操作步驟比較繁瑣，在緊急情況下，不能及時(shí)得到分析結(jié)果;其次，化學(xué)分析完成后，試劑的處理是一個(gè)難點(diǎn)，隨意處置會(huì)造成環(huán)境污染。因此光譜設(shè)備相對(duì)傳統(tǒng)化學(xué)分析方法，是金屬冶煉，鑄造等行業(yè)的更好選擇。
另一方面，直讀ICP光譜儀測(cè)樣非常快速，可以一次性分析多元素，節(jié)省分析時(shí)間，適合用于爐前快速分析。分析結(jié)果準(zhǔn)確，是許多鑄造，金屬冶煉的工具。
企業(yè)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的要求對(duì)ICP光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域的進(jìn)一步拓寬起到了積極作用，極大地帶動(dòng)了ICP光譜儀器設(shè)備市場(chǎng)需求量 的增加。隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展邁進(jìn)新時(shí)代，分析儀器行業(yè)亦開(kāi)啟了新篇章。
ICP發(fā)射光譜常見(jiàn)問(wèn)題
1、影響等離子體溫度的因素有： 載氣流量：流量增大，中心部位溫度下降; 載氣的壓力：激發(fā)溫度隨載氣壓力的降低而增加; 頻率和輸入功率：激發(fā)溫度隨功率增大而，近似線性關(guān)系，在其他條件相同時(shí)，增加頻率，放電溫度降低; 第三元素的影響：引入低電離電位的釋放劑(如T1)的等離子體，電子溫度將增加。
2、電離干擾的消除和抑制 原子在火焰或等離子體的蒸氣相中電離而產(chǎn)生的干擾。它使火焰中分析元素的中性原子數(shù)減少，因而降低分析信號(hào)。在標(biāo)準(zhǔn)和分析試樣中加入過(guò)量的易電離元素，使火焰或等離子體中的自由電子濃度穩(wěn)定在相當(dāng)高的水平上，從而抑制或消除分析元素的電離。此外，由于溫度愈高，電離度愈大，因此，降低溫度也可減少電離干擾。
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