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場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡Sigma

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

蔡司西格瑪家族　　蔡司SIGMA FE-SEM用于高質(zhì)量成像和高級(jí)分析顯微鏡　　蔡司Sigma 300具有**的價(jià)格和性能。借助ZEISS Sigma 500一*的EDS幾何

詳細(xì)介紹

　　蔡司西格瑪家族

　　蔡司SIGMA FE-SEM用于高質(zhì)量成像和高級(jí)分析顯微鏡

　　蔡司Sigma 300具有**的價(jià)格和性能。借助ZEISS Sigma 500一*的EDS幾何結(jié)構(gòu)，可以快速，方便地完成元素分析。依靠精確，可重復(fù)的結(jié)果–每次都能從任何樣品中獲得結(jié)果。

　　靈活的檢測(cè)4步驟工作流程，高級(jí)分析

　　將場(chǎng)發(fā)射SEM(FE-SEM)技術(shù)與分析相結(jié)合。受益于久經(jīng)考驗(yàn)的雙子座電子光學(xué)器件。從多種檢測(cè)器選項(xiàng)中進(jìn)行選擇：材料科學(xué)中的圖像顆粒，表面和納米結(jié)構(gòu)，研究半導(dǎo)體或醫(yī)療設(shè)備，地質(zhì)或生物樣品。Sigma的半自動(dòng)4步工作流程可節(jié)省時(shí)間：結(jié)構(gòu)化成像和分析程序并提高生產(chǎn)率。研究和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室中所有學(xué)科的FE-SEM用戶現(xiàn)在都受益于ZEISS Sigma 500在1 kV下1.3 nm的分辨率和更好的可用性。

　　靈活檢測(cè)清晰圖像

　　使用*新的檢測(cè)技術(shù)根據(jù)您的需求定制Sigma，并對(duì)所有樣品進(jìn)行表征。

　　使用環(huán)形背向散射檢測(cè)器(aBSD)表征成分，晶體學(xué)和表面形貌。在所有真空條件下，它都能提供出色的低kV圖像。受益于更高的靈敏度，更高的信噪比和更快的速度。

　　享受新一代的二次電子(SE)檢測(cè)器。在可變壓力模式下受益于Sigma的C2D和VPSE檢測(cè)器：在低真空下工作，您可以得到清晰的圖像，對(duì)比度*高可提高85%。

　　自動(dòng)化并加快工作流程

　　4個(gè)步驟的工作流程使您可以控制Sigma的所有功能。受益于快速的成像時(shí)間并節(jié)省了培訓(xùn)時(shí)間-尤其是在多用戶環(huán)境中。

　　首先，瀏覽樣品，然后設(shè)置*佳成像條件。

　　接下來，利用感興趣區(qū)域(ROI)自動(dòng)獲取多個(gè)樣本中的圖像。最后，使用工作流程的步對(duì)結(jié)果進(jìn)行上下文可視化。

　　最后，SmartSEM Touch收集并以交互式地圖的形式顯示您的數(shù)據(jù)，以便您可以理解樣品。

　　執(zhí)行高級(jí)分析顯微鏡

　　結(jié)合掃描電子顯微鏡和元素分析：Sigma一*的EDS幾何形狀可提高您的分析效率，尤其是在對(duì)光束敏感的樣品上。

　　以一半的探針電流和兩倍的速度獲得分析數(shù)據(jù)。

　　在您的FE-SEM中實(shí)現(xiàn)完整，無陰影的分析。使用8.5 mm的短分析工作距離和35°的起飛角，可從中獲利。

　　基于成熟的雙子座技術(shù)

　　Gemini物鏡的設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁場(chǎng)，以*大限度地提高光學(xué)性能，同時(shí)將對(duì)樣品的電場(chǎng)影響降至*低。即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品(例如磁性材料)上，也可以實(shí)現(xiàn)出色的成像。

　　Gemini Inlens檢測(cè)概念可通過檢測(cè)二次(SE)和/或背向散射(BSE)電子來*大程度地縮短成像時(shí)間，從而確保有效的信號(hào)檢測(cè)。

　　Gemini光束增強(qiáng)器技術(shù)可確保探頭尺寸小和信噪比高。

　　靈活檢測(cè)清晰圖像

　　使用的檢測(cè)技術(shù)表征所有樣品。

　　使用ETSE和Inlens檢測(cè)器獲得高真空模式的地形，高分辨率信息。

　　使用VPSE或C2D檢測(cè)器在可變壓力模式下獲得清晰的圖像。

　　使用aSTEM檢測(cè)器產(chǎn)生高分辨率的透射圖像。

　　使用aBSD檢測(cè)器研究成分和形貌。

　　借助新的自動(dòng)擺動(dòng)功能，輕松快速地對(duì)準(zhǔn)光圈。

　　SmartEDX

　　發(fā)現(xiàn)嵌入式能量色散X射線光譜分析

　　如果僅憑SEM成像不足以了解您的樣品，則可以使用嵌入式EDS在SEM中進(jìn)行微分析。使用針對(duì)低壓應(yīng)用優(yōu)化的解決方案來獲取空間解析的元素化學(xué)信息。

　　氮化硅窗口具有出色的透射率，可優(yōu)化常規(guī)微分析應(yīng)用并檢測(cè)輕元素的低能X射線

　　工作流引導(dǎo)的圖形用戶界面提高了多用戶環(huán)境中的易用性和可重復(fù)性

　　蔡司工程師提供的全面服務(wù)和系統(tǒng)支持為您提供一站式安裝，預(yù)防性維護(hù)和保修服務(wù)

　　拉曼成像和掃描電子顯微鏡

　　全面集成RISE的好處

補(bǔ)充材料的表征并添加拉曼光譜成像。從樣品中獲得化學(xué)指紋，并通過共焦拉曼成像功能擴(kuò)展蔡司Sigma 300。

　　識(shí)別分子和晶體學(xué)信息

　　進(jìn)行3D分析并將SEM成像與拉曼映射和EDS數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)起來(如果適用)

　　集成的RISE使您可以利用一*的SEM和拉曼系統(tǒng)

關(guān)鍵詞：顯微鏡掃描電子顯微鏡電子顯微鏡

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