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熱場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡

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產(chǎn)品型號Quattro

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  美國FEI掃描電鏡

聚焦離子束掃描電子顯微鏡

熱場發(fā)射掃描式電子顯微鏡(SEM)

鎢燈絲掃描式電子顯微鏡(SEM)

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上海杜美精密儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

1、升級后的新產(chǎn)品-環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)射掃描電鏡

詳細(xì)介紹

1、升級后的新產(chǎn)品-環(huán)境掃描技術(shù)的高分辨場發(fā)射掃描電鏡。

2、齊全的配置

Quattro 場發(fā)射掃描電鏡給用戶配置了高真空的二次電子探頭，低真空的二次電子探頭，環(huán)境真空下的二次電子探頭，以及背散射電子探頭，和紅外CCD 探頭。能滿足用戶在日后工作中所有可能遇到的情況，以降低用戶對樣品制備的要求。

低真空/環(huán)境真空技術(shù)使得不導(dǎo)電樣品和/或含水樣品不經(jīng)導(dǎo)電處理即可直接成像和分析，樣品表面無電荷累積現(xiàn)象。

3、的電子光學(xué)技術(shù)成熟的肖特基場發(fā)射電子槍、固定式末級光闌、60°/45°兩級錐度極靴、大工作距離精密聚焦技術(shù)等，能對導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品進(jìn)行EDS/EBSD 分析，在高真空模式，低真空模式，或環(huán)境真空模式。

穩(wěn)定的大束流(200 nA) 確保能譜及EBSD 分析工作的快速與準(zhǔn)確。

4、“穿過透鏡” 壓差真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)

普通高真空掃描電子顯微鏡的樣品室和鏡筒都處于高真空狀態(tài)，要求所分析的樣品必須是固體的導(dǎo)電樣品，如果樣品不是固體和導(dǎo)電的，需要對樣品進(jìn)行處理，使樣品達(dá)到要求。然而，在研究工作中所遇到的樣品中，固體導(dǎo)電樣品只是很少一部分，通常我們還會(huì)遇到非導(dǎo)電固體樣品，表面含水、含油的固體樣品以及非固態(tài)樣品。

在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過特殊的真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)，采用三個(gè)區(qū)域兩個(gè)不同的泵來抽真空，樣品室的真空度降低，使得不適應(yīng)高真空的樣品能夠保持保持原始狀態(tài)，在掃描電子顯微鏡中進(jìn)行觀察和分析。

與此同時(shí)，掃描電子顯微鏡的鏡筒部分仍然處于高真空狀態(tài)，滿足電子光學(xué)系統(tǒng)的要求。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，通過向樣品室充水汽，可保持含水樣品和生物樣品的原始狀態(tài)。FEI/飛利浦環(huán)境掃描電子顯微鏡的樣品室氣體壓力可在10Pa ～ 4000Pa 之間改變，達(dá)到樣品中水的平衡，或進(jìn)行樣品的脫水、增濕測試。

5、二次電子探測器

在普通高真空掃描電子顯微鏡中，采用的是E‐T 二次電子探測器。這種探測器在低真空狀態(tài)下不能工作。為了能夠在樣品室低真空狀態(tài)下探測二次電子信號，FEI/飛利浦公司開發(fā)了低真空二次電子探測器GSED。

GSED 二次電子探測器的分辨率可達(dá)到< 1.4 nm ，與普通高真空電鏡的分辨率指標(biāo)相同。而且，GSED 探測器克服了E‐T 探測器的缺點(diǎn)，可觀察發(fā)光、加熱的樣品。

6、特殊的樣品倉設(shè)計(jì)284mm 大型樣品倉，整體鑄造而成，在5軸馬達(dá)全自動(dòng)驅(qū)動(dòng)，給用戶雙重保證。在手動(dòng)操作時(shí), xT‐電鏡控制軟件也監(jiān)控樣品臺的運(yùn)行, 保證樣品上座標(biāo)的性。樣品位置和觀察條件記憶功能允許用戶將感興趣的區(qū)域的位置和電鏡條件記憶下來, 可隨時(shí)回復(fù)記憶的位置和觀察條件, 方便用戶的對比分析工作。

7、的單窗口和四窗口操作界面

同時(shí)可以顯示二次電子像，背散射像，以及他們的混合像，還有紅外CCD 實(shí)時(shí)監(jiān)控像。

這樣可以獲得的信息?？刂茀^(qū)功能使用非常人性化, 控制功能易于接近。

8、特殊的紅外CCD 設(shè)計(jì)

紅外CCD 探頭設(shè)計(jì)，不僅可以實(shí)時(shí)監(jiān)控樣品倉的內(nèi)部情況，同時(shí)可以通過這個(gè)窗口控制樣品臺的移動(dòng)，還可以利用這個(gè)床空拍攝低倍照片進(jìn)行導(dǎo)航。

9、分析型末級光闌。

在一般的低真空掃描電子顯微鏡中，在低真空狀態(tài)下，能譜分析的空間分辨率和分析精度大大降低，基本喪失了能譜分析的實(shí)用性。在環(huán)境掃描電子顯微鏡中，FEI/飛利浦配置了分析型末級光闌，能夠保證在低真空狀態(tài)下的能譜分析的空間分辨率和分析精度。

10、數(shù)字化掃描技術(shù)

在Quattro掃描電鏡中, FEI/ 飛利浦采用了數(shù)字化的電子束掃描技術(shù), 無論是通過Quanta xT‐控制軟件對電鏡進(jìn)行操作, 還是外接的第三方分析設(shè)備, 都是基于網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)進(jìn)行數(shù)字化掃描控制。例如, 如果用戶在Quanta 上安裝能譜儀系統(tǒng), 能譜儀公司只要將其為Quanta 設(shè)計(jì)的能譜探頭安裝在Quattro樣品室上, 將其為Quattro 設(shè)計(jì)的能譜分析器通過Quattro提供的網(wǎng)絡(luò)集線器進(jìn)行網(wǎng)絡(luò)連接, 能譜儀就可通過Quattro的數(shù)字化掃描器來控制電子束在樣品表面的掃描。