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北京歐唐科技發(fā)展有限公司
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更新時(shí)間：2023-08-31 09:48:24瀏覽次數(shù)：387次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線簡(jiǎn)介sciaMill150適用于在多種材料復(fù)雜多層膜上的微結(jié)構(gòu)刻蝕
簡(jiǎn)介
scia Mill 150適用于在多種材料復(fù)雜多層膜上的微結(jié)構(gòu)刻蝕。該系統(tǒng)對(duì)活性氣體相容，能夠進(jìn)行反應(yīng)蝕刻工藝以提高選擇性和刻蝕速率。由于其節(jié)省空間的設(shè)計(jì)，scia Mill 150是小規(guī)模生產(chǎn)和研發(fā)應(yīng)用的理想選擇。
常規(guī)屬性
- 采用圓形離子源對(duì)全部樣品區(qū)域在惰性或反應(yīng)氣體環(huán)境下進(jìn)行刻蝕
- 可進(jìn)行離子束刻蝕（IBE、IBM）、反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）和化學(xué)輔助離子束刻蝕（CAIBE）
- 刻蝕角度調(diào)整：樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)且傾斜可調(diào)
- 可獲得的均勻性而無(wú)需修正擋板
- 通過(guò)反應(yīng)氣體可以提高刻蝕速率，并控制刻蝕選擇性
- 通過(guò)基于SIMS（二次離子質(zhì)譜）或光學(xué)的截止點(diǎn)探測(cè)技術(shù)控制工藝
- 可配備晶圓載具（wafer carrier）以適用不同尺寸基底
- 可以刻蝕光刻膠晶圓，具有良好的樣品冷卻配置
系統(tǒng)性能
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