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AX7685 ASTRON®ex反應(yīng)性氣體發(fā)生器

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產(chǎn)品簡介

ASTRON®ex反應(yīng)性氣體發(fā)生器是我們產(chǎn)量的獨(dú)立式反應(yīng)性氣體源,用于室清洗和其他反應(yīng)性氣體應(yīng)用。ASTRONex反應(yīng)氣體發(fā)生器采用的低場環(huán)形等離子體技術(shù),有效地分離輸入氣體,產(chǎn)生下游反應(yīng)化學(xué)物質(zhì)。的高功率設(shè)計(jì)有效地分離替代氣體,如C3、F8和CF4

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品細(xì)節(jié):AX7685 ASTRON®ex反應(yīng)性氣體發(fā)生器

ASTRON®ex反應(yīng)性氣體發(fā)生器是我們產(chǎn)量的獨(dú)立式反應(yīng)性氣體源,用于室清洗和其他反應(yīng)性氣體應(yīng)用。ASTRONex反應(yīng)氣體發(fā)生器采用的低場環(huán)形等離子體技術(shù),有效地分離輸入氣體,產(chǎn)生下游反應(yīng)化學(xué)物質(zhì)。的高功率設(shè)計(jì)有效地分離替代氣體,如C3、F8和CF4
. 增加的流動(dòng)能力為這些替代工藝氣體的經(jīng)濟(jì)高效使用提供了足夠的反應(yīng)氣體產(chǎn)量。與其他等離子體生成技術(shù)相比,ASTRONex反應(yīng)氣體發(fā)生器效率更高,擁有成本更低,能夠從NF3、C3、F8、CF4和其他氣體中產(chǎn)生高流量。該設(shè)計(jì)架構(gòu)集電源、控制為一體
模塊,與等離子體室合并成一個(gè)緊湊的模塊。由于界面簡單,ASTRONex反應(yīng)氣體發(fā)生器可以輕松集成到新的和現(xiàn)有的生產(chǎn)工具中。
ASTRONex反應(yīng)氣體發(fā)生器的主要應(yīng)用是作為反應(yīng)氣體的遠(yuǎn)程來源,使用替代氣體清潔工藝室內(nèi)壁上的沉積物;或者需要高通量的反應(yīng)物。通過產(chǎn)生氟原子與腔室中的沉積物發(fā)生反應(yīng),形成新的氣體,這些氣體很容易被擦洗,以限度地減少對環(huán)境的影響。此外,與原位射頻方法相比,等離子體源的遠(yuǎn)程位置減少了對工藝室的磨損。

AX7685

The ASTRON®ex reactive gas generator is our highest output, self-contained reactive species source for chamber cleaning and other reactive gas applications. The ASTRONex reactive gas generator uses patented Low-Field-Toroidal plasma technology to efficiently dissociate input gas to produce downstream reactive chemistries. The unique high power design effectively dissociates alternative gases such as C3 F8 and CF4
. The increased flow capability provides sufficient reactive gas production for cost-effective use of these alternative process gases. Relative to other plasma generating technologies, the ASTRONex reactive gas generator is more efficient, has lower cost of ownership and is capable of producing high flows from NF3 , C3 F8 , CF4 , and other gases. The design architecture integrates the power source, control
module, and plasma chamber into a single compact module. Due to its simple interface, the ASTRONex reactive gas generator is easily integrated onto both new and existing production tools.
The primary application for the ASTRONex reactive gas generator is as a remote source of reactive gas to clean deposits from interior walls of process chambers using alternative gases; or where high fluxes of a reactant species are required. By generating atomic fluorine that reacts with deposits in the chamber, new gases are formed that are easily scrubbed to minimize the environmental impact. In addition, the remote location of the plasma source reduces wear and tear on the process chamber compared to in situ RF methods.

推薦主營型號:AX7685 ASTRON®ex反應(yīng)性氣體發(fā)生器

GVC736CE101 Igct模塊ABB SCYC51020 H傳輸單元卡ABB
UAD142A01 3BHE012551R0001熱電偶輸入模塊 BC810K02 3BSE031155R1 cex總線互連單元ABB
TP830 3BSE018114R1底板ABB TU810 3BSE013230R1終端單元ABB
DI04 DI模塊,16-CH, 48 VDC ABB FENA-11 1端口以太網(wǎng)適配器ABB
CAI04 CI模塊,16-CH, 48 VDC ABB COM0003 2RAA005844A0006A控制面板模塊ABB
HAFAABAAABE1BCA1XE饋線保護(hù)繼電器ABB PPD512 A10-15000 3BHE040375R1023靜態(tài)勵(lì)磁系統(tǒng)ABB
FPR3346501R1012模擬輸入模塊ABB AIM0006 2RCA021397A0001F控制面板模塊ABB
PU515A 3BSE032401R1實(shí)時(shí)加速器(RTA) ABB 5SHX1445H0001 3BHL000391P0101 3BHB003230R0101 5SXE05-0152 IGBT模塊ABB
R474A11XE HAFAABAAABE1BCA1XE饋線保護(hù)和控制繼電器ABB Ref615e_e hbfhaeagnca1bnn1xe饋線保護(hù)控制繼電器abb
REF542PLUS 1VCR007346饋線端子ABB 5SHX2645L0004 3BHL000389P0104 3BHB003154R0101 5SXE04-0150/GVC707AE01 IGCT模塊ABB
PFEA113-65 3BSE050092R65張力電子ABB SM811K01 3BSE018173R1安全CPU模塊ABB
3BHE023584R2625控制處理器ABB TK803V018 3BSC950130R1電纜組件ABB
REF542PLUS 1VCF752000饋線終端ABB DSAI146 3BSE007949R1模擬電路第31單元ch ABB
XVC768102 3BHB007211R102控制主板ABB 3BSE002540R1程序卡接口ABB
PP865A 3BSE042236R2高性能15英寸觸摸屏ABB CI546 3BSE012545R1 VIP通信接口ABB
XVC767AE102 3BHB007209R0102控制主板ABB AF100接口模塊ABB
UFC762AE101 3BHE006412R0101控制主板ABB CI541V1 3BSE014666R1 Profibus接口子模塊ABB

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