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日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH

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（1）注入機(jī)中的磁性離子分析器能將需要的雜質(zhì)離子從混合的離子束中分離出來(lái)

詳細(xì)介紹

（1）注入機(jī)中的磁性離子分析器能將需要的雜質(zhì)離子從混合的離子束中分離出來(lái)。

（2）加速管。為了獲得更高的能量（也就是運(yùn)動(dòng)速度）日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH，正離子還需要在加速管中的電場(chǎng)下進(jìn)行加速。

（3）掃描系統(tǒng)。注入機(jī)離子束斑約1~3cm²，日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH需要通過(guò)掃描覆蓋整個(gè)硅片?？梢酝ㄟ^(guò)固定硅片，移動(dòng)束斑，或者相反操作進(jìn)行掃描。掃描系統(tǒng)有靜電掃描、機(jī)械掃描、混合掃描和平行掃描。

（4）工藝腔。離子束注入在工藝腔中進(jìn)行。一般工藝腔包括掃描系統(tǒng)、硅片裝卸終端臺(tái)、硅片傳輸系統(tǒng)、檢測(cè)系統(tǒng)，以及控制溝道效應(yīng)的裝置。

離子注入?yún)?shù)主要有劑量和射程。日本HD裝卸設(shè)備諧波CSF-50-160-2UH劑量是單位面積硅片注入的離子數(shù)，單位是原子每平方厘米（或離子每平方厘米）。射程是離子注入過(guò)程中，離子穿入硅片的總距離。注入機(jī)的能量越高，則雜質(zhì)原子穿入硅片深度越大。

關(guān)鍵詞：裝卸設(shè)備

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