一、技術(shù)原理:
(1)桌面小型高溫蒸鍍儀,臺式設(shè)計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
(2)通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的示意圖。
二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:
★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;
★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設(shè)計;
★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
★可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺使薄膜更均勻;
★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★7寸顯示器定時定點調(diào)節(jié)電流,達到控制功率效果;
★具有記憶儲存功能,直接調(diào)出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果;
★配置了靶臺擋板,可手動調(diào)節(jié)或自動調(diào)節(jié)擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果;
三、技術(shù)支持&服務:
1.技術(shù)支持:在合同簽訂之前,我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設(shè)計,使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術(shù)指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。
2.安裝與培訓:在產(chǎn)品使用前,我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術(shù)支持、培訓及演示服務。
3.產(chǎn)品質(zhì)保:我們對產(chǎn)品提供12個月的質(zhì)保期,在質(zhì)保期內(nèi)發(fā)生設(shè)備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)
4.終身維護:我們對提供的產(chǎn)品提供終身服務,對于超過質(zhì)保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
四、桌面小型高溫蒸鍍儀技術(shù)資料:
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最1大功率 | ≤1200W |
最1大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (最1大可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |