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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2023-07-05 14:53:36瀏覽次數(shù)：179次
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金屬磁控鍍膜真空濺射，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。
一、公司背景介紹：
（1）鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開(kāi)發(fā)新設(shè)計(jì)以滿足客戶的特殊要求。
（2）鄭科探的工程團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。KT-Z1650PVD真空鍍膜機(jī)已通過(guò)分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。
二、儀器描述：金屬磁控鍍膜真空濺射KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）的薄膜。在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速。
通過(guò)觸摸屏中直觀檢測(cè)數(shù)據(jù)和曲線；歷史頁(yè)面可顯示歷史涂層信息。
可控鍍膜速率，可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)。
可手動(dòng)或自動(dòng)，根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射。
樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。
標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。
四、金屬磁控鍍膜真空濺射KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)：
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
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