IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵lat Milling®*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等,為評(píng)價(jià)目的樣品的制作。
*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本國內(nèi)的日立有限公司的注冊(cè)商標(biāo)。
參數(shù)規(guī)格:
項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
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斷面研磨桿 | 平面研磨桿 |
使用氣體 | Ar(氬)氣 |
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加速電壓 | 0 ~ 6 kV |
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**研磨速度(Si材料) | 500 µm/hr*1 以上 | - |
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**樣品尺寸 | 20(W)× 12(D)× 7(H)mm | Φ50 × 25(H) mm |
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離子束 間歇照射功能 | 標(biāo)配 |
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尺寸 | 616(W)× 705(D)× 312(H)mm |
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重量 | 機(jī)體48 kg+回轉(zhuǎn)泵28 kg |
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冷卻溫度調(diào)節(jié)功能 | 通過液氮間接冷卻樣品、溫度設(shè)定范圍:0°C ~ -100°C |
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空氣隔離 樣品夾持器 | 僅支持?jǐn)嗝嫜心A持器 | - |
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FP版斷面研磨夾持器 | 100 µm/rotate*2 | - |
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用于加工監(jiān)控的顯微鏡 | 倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD) |
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產(chǎn)品特點(diǎn):
高通量的斷面研磨
配備斷面研磨能力達(dá)到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出斷面樣品。
*2在加速電壓6 kV下,將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時(shí)時(shí)的**深度
斷面研磨加工原理圖
平面研磨(Flat Milling®)
均勻加工成直徑約為5mm的范圍
可運(yùn)用于符合其目的的廣泛領(lǐng)域
**可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品
可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(dòng)(±60度~±90度的翻轉(zhuǎn))2種加工方法
平面研磨(Flat Milling®)的主要用途
平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖
冷卻溫度調(diào)節(jié)功能*1
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升,所導(dǎo)致樣品的溶解和變形。對(duì)于過度冷卻后會(huì)產(chǎn)生開裂的樣品,通過冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過度冷卻而產(chǎn)生開裂。
*1此調(diào)節(jié)功能不是IM4000PLUS的標(biāo)配功能,而是配有冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS功能。
樣品:鉛焊料