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1200°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)

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更新時(shí)間：2024-09-28 10:43:38瀏覽次數(shù)：94次

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長(zhǎng)沙沛鈺進(jìn)出口貿(mào)易有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：經(jīng)銷商

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所在地區(qū)：湖南長(zhǎng)沙市

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

型號(hào)：OTF-1200X-HVC產(chǎn)品概述：OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成

詳細(xì)介紹

型號(hào)：OTF-1200X-HVC

產(chǎn)品概述：OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成。其工作溫度可達(dá)1200℃，極限真空度可達(dá) 10-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

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技術(shù)參數(shù)實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

設(shè)備名稱

? 1200°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-OTF-1200X--HVC （2019.12.9—科晶實(shí)驗(yàn)室審核）

產(chǎn)品提示

科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/strong> 圖片未及時(shí)更新提示 多種配件可選提示 危險(xiǎn)設(shè)備操作提示

主要特點(diǎn)

? 高熔點(diǎn)物質(zhì)能夠在低溫下合成

? 可生長(zhǎng)單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種物質(zhì)

? 不僅可以在基片上進(jìn)行生長(zhǎng)，還可以在粉體表面生長(zhǎng)

基本參數(shù)

一、加熱爐：

? 溫度：1100℃（1200℃＜1h）

? 總加熱度: 440mm

? 升溫速率：≤10℃/min

? 恒溫精度：±1℃

? 熱偶：K型熱偶

? 電源：AC208-240 50/60Hz

? 功率：2.5KW

二、供氣系統(tǒng)：

產(chǎn)品	二通道	三通道	四通道	五通道
工作溫度	5-45℃	5-45℃	5-45℃	5-45℃
壓力	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa
精度	±1.5% FS	±1.5% FS	±1.5% FS	±1.5% FS
重復(fù)精度	±0.2%FS	±0.2%FS	±0.2%FS	±0.2%FS
流量范圍	一路：1~199 SCCM 二路：1~199 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~499 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~199 SCCM 四路：1~499 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~199 SCCM 四路：1~499 SCCM
注意	其他流量范圍的可定制（0~100 、1~200 、1~500 、1~1000 、1~2000 、1~5000 SCCM），需額外費(fèi)用			五-九路可按照客戶要求定制

三、103G高真空機(jī)組：

產(chǎn)品	國(guó)產(chǎn)分子泵	愛(ài)德華分子泵
抽氣速率	·N2 33 L/s ·He 39 L/s ·H2 32 L/s	·N2 42 L/s ·He 49 L/s ·H2 45 L/s
系統(tǒng)極限真空度	<1E-4 Pa (配和本公司管式爐使用可達(dá)到1E-2Pa)	<1E-6 Pa (配和本公司管式爐使用可達(dá)到1E-4Pa)
分子泵組成	RVP-4機(jī)械泵和F-100/110分子泵	隔膜泵和斡旋分子泵
使用電壓和功率	電壓：200~240V 輸出功率：150W	電壓：185-265V 輸出功率：100W
移動(dòng)殼體尺寸:	600(L)x600(W)x750(H)mm	600(L)x600(W)x750(H)mm