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賽默飛三重四極桿質(zhì)譜儀TSQ Endura

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更新時間：2024-07-03 07:12:44瀏覽次數(shù)：354次

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  液質(zhì)聯(lián)用（LC-MS/LC-MS）

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賽默飛色譜及質(zhì)譜

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：57條

所在地區(qū)：上海上海市

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產(chǎn)品簡介

Thermo ScientificTM TSQ EnduraTM 是賽默飛新一代三重四極桿質(zhì)譜儀。TSQ Endura 在賽默飛*的三重四極桿技術(shù)平臺上重新設(shè)計了一套從離子源到檢測器的離子光學(xué)傳輸系統(tǒng)，整個系統(tǒng)具有同類產(chǎn)品中Z高的靈敏度，*的耐用性，結(jié)合新設(shè)計的軟件操作平臺，具有易用性。

詳細(xì)介紹

　　賽默飛三重四極桿質(zhì)譜儀TSQ Endura離子源

　　TSQ Endura 配置的是賽默飛新設(shè)計的的Easy Max NG 離子盒，具有加熱型HESI 源和APCI 源一體化設(shè)計，只需要更換噴針即可實現(xiàn)ESI 源和APCI 源的切換。Easy Max NG 源的另一個特點是集成式氣路電路設(shè)計，安裝Easy Max NG 源時即可自動完成氣路和電路的連接，不需要進(jìn)行額外的操作。同時質(zhì)譜系統(tǒng)還可自動識別源的類型，真正實現(xiàn)了智能化操作。

　　另外，電噴霧源噴針沿用了傾斜噴霧角度設(shè)計，且前后、左右位置可調(diào)，離子傳輸通道下方的不對稱切面，使得多余的溶劑噴霧直接快速的排除到傳輸通道下方，減少離子源的維護(hù)周期，使得實際樣品分析試驗中耐受性zui大化。在離子源的排放端口具有恒定的氮氣氣流，去除更多溶劑蒸汽，降低基線噪音并增加系統(tǒng)耐用性。

　　賽默飛三重四極桿質(zhì)譜儀TSQ Endura離子傳輸部件

　　在離子傳輸部件上TSQ Endura 有兩大*設(shè)計，1是RF-lens 設(shè)計，對于由離子傳輸管中輸入的大量離子具有*的傳輸效率和*的聚焦能力。同時由于RF-lens 的獨立一體化設(shè)計以及不銹鋼材質(zhì)，可以簡單方便地進(jìn)行拆卸和清洗；第二是彎曲的離子束傳輸組件加上中性粒子擋桿的設(shè)計，質(zhì)譜離子化時會產(chǎn)生一些中性粒子，這些中性粒子如果進(jìn)入離子通道，會造成質(zhì)譜圖的噪音干擾，并且極易污染整個離子光學(xué)通道，將傳輸四極桿設(shè)計成彎曲通道，并在上方加上中性粒子阻擋桿的設(shè)計，帶電離子可以受電場影響發(fā)生偏轉(zhuǎn)通過傳輸四極桿，而中性離子不受電場影響不發(fā)生偏轉(zhuǎn)，湮滅在中性粒子阻擋桿上，避免進(jìn)入四極桿質(zhì)量分析器。

　　主四極桿

　　主四極桿是TSQ Endura 的核心部件之一，其可以對離子進(jìn)行過濾篩選和掃描，TSQ Endura上用的四極桿是賽默飛的雙曲面四極桿，具有同類產(chǎn)品中zui寬的質(zhì)量范圍。另一個特性是與其它三重四極桿上所加的振幅相等的RF電壓不同，TSQ Endura 四極桿上加的為不對稱RF電壓，通過施加這種不對稱的RF射頻電壓，將整個四極桿系統(tǒng)的離子傳輸效率提高。

　　主動碰撞池Q2

　　離子通過*個四極桿后，進(jìn)入到碰撞池Q2，Q2的主要作用是將離子進(jìn)行CID裂解，并高效傳輸?shù)降谌齻€四極桿進(jìn)行子離子的選擇掃描。TSQ Endura 主動碰撞池Q2采用了彎曲碰撞池設(shè)計，并且在軸向有DC 電場，可以對離子進(jìn)行分段加速，使得碎片離子在Q2中不但拐彎而且被加速，配合更高壓力的Ar做碰撞氣，可以獲得更加豐富、靈敏的二級離子碎片。

　　雙模式離散打拿級檢測器

　　TSQ Endura 的檢測器為雙模式離散打拿級檢測器，消除噪音，提高靈敏度。雙模式檢測器可對離子流進(jìn)行自動智能識別，進(jìn)行不同模式間的切換和信號擬合，從而實現(xiàn)超高靈敏度和超寬線性動態(tài)范圍

關(guān)鍵詞：四極桿質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀