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高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱在晶圓封裝前需在150~180℃、濕度≤5%RH的環(huán)境中進行去濕處理，防止金屬鍵合層氧化失效?

潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱應用場景半導體行業(yè)?：晶圓脫泡、LCP纖維烘烤、光刻膠固化（如PI/BCB/PBO涂層）/晶圓退火、電子元器件制造（前烘...

紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱主要應用于UV膠水、UV 油墨、UV光油、UV 油漆、UV 涂料、薄膜等 UV 光感材料的固化，3D打印固化，新型材...

程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱?智能控溫系統?：PID精準調節(jié)技術，溫度波動≤±0.5℃，確保材料干燥均勻性，避免熱敏成分破壞。?真空環(huán)境優(yōu)...

桌上型無氧烘箱 實驗高溫無氧固化爐是一種專為高精度電子元件、IC/芯片、PI/BCB/CPI/BPO等膠水等材料設計的緊湊型固化設備，結合無氧環(huán)境與高效加熱技術...

大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現結構較好的轉移,復制.

硅烷沉積系統 氣相沉積設備硅烷涂膠機是一種用于硅烷（Siih?）作為前驅體的薄膜沉積設備，主要用于半導體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、...

智能型無塵無氧烘箱高溫氮氣無氧PI烤箱電子膠體固化：銀膠/BCB膠/光刻膠高溫固化（300-450℃）晶圓加工：退火處理、PI膜烘烤（±1℃波動精度）...

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機氣相沉積系統硅烷偶聯劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合...

疏水處理設備疏水性處理系統 HMDS預處理是一種改善物體表面性質的技術，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。

表面疏水性處理設備陶瓷玻璃疏水處理機通過氣相涂布硅烷偶聯劑HMDS實現陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接觸角為118?135度，且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能...

納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統生產工藝周期短，提高生產效率；修飾液用量極少，節(jié)約成本90%；閉環(huán)的工藝過程，安全系數高。

真空存儲箱真空保存箱 桌上真空儲存柜用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體， 電子產品（半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片...

MSD烘箱高溫超低濕烘箱濕敏烤箱 烘焙容易產生老化，以及烘焙受潮超過 0.1wt%的元件產生損 害等原因，推薦使用 40°C + 5%RH 或是 90...

超低濕烘箱高溫低濕烤箱濕敏原件烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的專用烘烤設備，可實現：40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh125℃~150℃/&...

芯片真空存儲箱 真空充氮儲存柜 真空氮氣柜一種用于存儲芯片等高價值物品的特殊存儲設備，它采用真空密封的存儲方式，可以有效地防止芯片受到空氣氧化和潮氣的影響，從而...

精密熱板光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤"，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Ex...

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積晶圓基底脫水烘烤