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DP.GALVANOTEST 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)厚儀

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應(yīng)用：

DP.GALVANOTEST 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀，應(yīng)用庫(kù)侖電量分析原理，可以用于測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍層厚度。基體包括鋼鐵、有色金屬、以及絕緣材料。例如鐵上鎳、鐵上鋅、銅上銀、和環(huán)氧樹(shù)脂上的銅等等。

詳細(xì)介紹

應(yīng)用：

DP.GALVANOTEST 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀 ，應(yīng)用庫(kù)侖電量分析原理，可以用于測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍層厚度。基體包括鋼鐵、有色金屬、以及絕緣材料。例如鐵上鎳、鐵上鋅、銅上銀、和環(huán)氧樹(shù)脂上的銅等等。

測(cè)量時(shí)只需除去幾乎看不到的一小塊面積的鍍層金屬，而基體不受影響。庫(kù)侖法確保測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確、可靠，儀器使用又十分簡(jiǎn)便。測(cè)量操作由儀器的指令自主完成，操作者不需專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

庫(kù)侖法又是*能夠測(cè)量復(fù)合鍍層、多層鍍層的方法。例如測(cè)量在鐵上依次鍍上的銅、鎳、鉻等。

DP.GALVANOTEST 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀保證所有測(cè)量和統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的安全可靠，并可由 MINIPRINT 微型打印機(jī)打印輸出，還可以打印特征電壓曲線（見(jiàn)法拉第原理圖），作進(jìn)一步的數(shù)據(jù)分析。

測(cè)量原理：
根據(jù)法拉第原理測(cè)量。其過(guò)程類(lèi)似于電鍍，但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反，是電解鍍。按照鍍層/基體的組合，選擇電解液注入電解池。將電解池置于被測(cè)樣板上。電解池和被測(cè)樣板之間嵌入密封墊圈，其作用一是確定測(cè)量面積，例如1mm，二是防止電解液外泄。電流通過(guò)電解液，在一定的面積下產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)。鍍層厚度就直接顯示在數(shù)字顯示器上。