含銅廢水的成分

由于廢水產(chǎn)生的過程不同,含銅廢水中銅離子的存在狀態(tài)、質(zhì)量濃度以及廢水中的成份也不相同,其差異較大。電鍍生產(chǎn)過程產(chǎn)生的含銅廢水中的污染物,如硫酸銅、硫酸、焦磷酸銅等,其質(zhì)量濃度在100mg/L及50mg/L以下;電路板生產(chǎn)過程產(chǎn)生的含銅廢水有含銅蝕刻液與洗滌廢水等,其質(zhì)量濃度在130～150mg/L及20mg/L以下;染料生產(chǎn)含銅廢水的質(zhì)量濃度為1291mg/L;銅礦山含銅廢水,其質(zhì)量濃度在幾十至幾百毫克每升。

含銅廢水處理技術(shù)

中和沉淀法

目前國內(nèi)常采用化學(xué)中和法、混凝沉淀法處理含銅綜合電鍍廢水，在對廢水中的酸、堿進行中和的同時，銅離子形成氫氧化銅沉淀，然后再經(jīng)固液分離裝置去除沉淀物。

單一含銅廢水在pH值為6.92時，就能使銅離子沉淀去除而達標(biāo)，一般電鍍廢水中的銅與鐵共存時，控制pH值在8~9，也能使其達到排放標(biāo)準(zhǔn)。然而對既含銅又含其它重金屬及絡(luò)合物的混合電鍍廢水，銅的去除效果不好，往往達不到排放標(biāo)準(zhǔn)，主要是因為此方法的處理實質(zhì)是調(diào)節(jié)廢水pH值，而各種金屬*佳沉淀的pH值不同，使得去除效果不好;再者如果廢水中含有氰、銨等絡(luò)合離子，與銅離子形成絡(luò)合物，銅離子不易離解，使得銅離子不能達標(biāo)排放。特別是對含有氰的含銅混合廢水經(jīng)處理后，銅離子的濃度和CN-的濃度幾乎成正比，只要廢水中的CN-存在，出水中的銅離子濃度就不會達標(biāo)。這就使得利用中和沉淀法處理含銅混合廢水的出水效果不好，特別是對于銅的去除效果不佳。

硫化物沉淀法

硫化物沉淀法處理含銅廢水具有很大的優(yōu)勢，可以解決一些弱絡(luò)合態(tài)重金屬不達標(biāo)的問題，硫化銅的溶解度比氫氧化銅的溶解度低得多，而且反應(yīng)的pH值范圍較寬，硫化物還能沉淀部分銅離子絡(luò)合物，所以不需要分流處理。然而，由于硫化物沉淀細(xì)小，不易沉降，限制了它的應(yīng)用，另外氰根離子的存在影響硫化物的沉淀，會溶解部分硫化物沉淀。

電化學(xué)法

電化學(xué)方法處理含銅廢水具有高效、可自動控制、污泥量少等優(yōu)點，且處理含銅廢水能直接回收金屬銅，處理時對廢水含銅濃度的范圍適應(yīng)較廣，尤其對濃度較高(銅的質(zhì)量濃度大于1g/L時)的廢水有一定的經(jīng)濟效益，但低濃度時電流效率較低。

離子交換法

該法能有效的去除礦山廢水中的銅離子，而且具有處理容量大、出水水質(zhì)好等特點，且占地少、不需對廢水進行分類處理，費用相對較低，但存在投資大、對樹脂要求高、不便于控制管理等缺點。

重金屬螯合劑

采用重金屬螯合劑，通過多種螯合基團對重金屬離子螯合，產(chǎn)生疏水性結(jié)構(gòu)而沉淀;同時，在體型結(jié)構(gòu)的高分子作用下，通過絮集和網(wǎng)捕作用顯著提高沉淀速度和去除率，從而擺脫了線性螯合沉淀的缺點。采用該方法處理印制電路板低銅含量的含銅廢水優(yōu)于采用傳統(tǒng)的化學(xué)處理法。

膜分離技術(shù)

膜法處理含銅廢水一般選用反滲透、超濾及二者的結(jié)合技術(shù)，膜法處理工業(yè)廢水的關(guān)鍵是根據(jù)分離條件選擇合適的膜。利用反滲透膜分離技術(shù)對含銅廢水的處理已見報道很多，該方法對含銅絡(luò)合物的電鍍廢水處理效果也不錯，并與其它水處理技術(shù)連用取得很好的效果。

蒸發(fā)技術(shù)

近年來，蒸發(fā)技術(shù)被越來越多的運用在污水處理中，具有污泥少，出水水質(zhì)好，不需要添加藥劑等優(yōu)點，但是相對的投資較大，運行成本較高。