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幾種電鍍廢水處理工藝流程說明
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關(guān) 鍵 詞 | 廢水處理設(shè)備,工業(yè)廢水處理設(shè)備,電鍍廢水處理設(shè)備,廢水處理設(shè)備工藝 |
- 【資料簡介】
電鍍廢水
電鍍生產(chǎn)工藝有很多種,由于電鍍工藝不同,所產(chǎn)生的廢水也各不相同,一般電鍍企業(yè)所排出的廢水包括有酸、堿等前處理廢水,氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬廢水。此外還有多種電鍍廢液產(chǎn)生。對(duì)于含不同類型污染物的電鍍廢水有不同的處理方法,分別介紹如下:
1.含氰廢水
目前處理含氰廢水比較成熟的技術(shù)是采用堿性氯化法處理,必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴(yán)格分流,避免混入鎳、鐵等金屬離子,否則處理困難。該法的原理是廢水在堿性條件下,采用氯系氧化劑將qing化物破壞而除去的方法,處理過程分為兩個(gè)階段,階段是將氰氧化為氰酸鹽,對(duì)氰破壞不*,叫做不*氧化階段,第二階段是將氰酸鹽進(jìn)一步氧化分解成二氧化碳和水,叫*氧化階段。
參考工藝流程
含氰廢水→調(diào)節(jié)池→一破氰池→二破氰池→斜沉池→過濾池→回調(diào)池→排放
反應(yīng)條件控制:
一氧化破氰:pH值10~11;理論投藥量:簡單qing化物CN-:Cl2=1:2.73,復(fù)合qing化物CN-:Cl2=1:3.42。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為300~350mv,反應(yīng)時(shí)間10~15分鐘。
二氧化破氰:pH值7~8(用H2SO4回調(diào));理論投藥量:簡單qing化物CN-:Cl2=1:4.09,復(fù)合qing化物CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應(yīng)終點(diǎn)為600~700mv;反應(yīng)時(shí)間10~30分鐘。反應(yīng)出水余氯濃度控制在3~5mg/1。處理后的含氰廢水混入電鍍綜合廢水里一起進(jìn)行處理。
2.含鉻廢水
含六價(jià)鉻廢水一般采用鉻還原法進(jìn)行處理,該法原理是在酸性條件下,投加還原劑、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、二氧化硫等,將六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻,然后投加氫氧化鈉、氫氧化鈣、石灰等調(diào)pH值,使其生成三價(jià)鉻氫氧化物沉淀從廢水中分離。
參考工藝流程
含Cr6+廢水→調(diào)節(jié)池→還原反應(yīng)池→混凝反應(yīng)池→沉淀池→過濾器→pH回調(diào)池→排放
還原反應(yīng)條件控制:加硫酸調(diào)整pH值在2.5~3,投加還原劑進(jìn)行反應(yīng),反應(yīng)終點(diǎn)以O(shè)RP儀控制在300~330mv,具體需通過調(diào)試確定,反應(yīng)時(shí)間約為15-20分鐘。攪拌可采用機(jī)械攪拌、壓縮空氣攪拌或水力攪拌。
混凝反應(yīng)控制條件:PH值:7~9,反應(yīng)時(shí)間:15~20分鐘。
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