該真空箱式爐以硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理;也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過流量計后由后膛進入,并有多處洗爐膛進氣口,出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體,能抽真空,真空度可達5pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點,是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
三、真空箱式爐規(guī)格型號
設備型號 | TZL-8-13 | TZL-10-13 | TZL-12-13 | TZL-12-13 | TZL-15-13 | |||
zui高溫度 | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ | |||
控制精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | |||
爐膛尺寸(mm) (W×H×L) | 200*200*500 | 300*300*630 | 300*300*1260 | 300*300*1470 | 300*300*1680 | |||
發(fā)熱元件 | Φ12*650硅碳棒 | Φ12*750硅碳棒 | ||||||
真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | |||
冷態(tài)壓升率 | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | |||
zui大功率 | 12Kw | 30kw | 60kw | 80kw | 100kw | |||
溫控方式 | 可控硅模塊自控 | |||||||
一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件,采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理;也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過流量計后由后膛進入,并有多處洗爐膛進氣口,出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體,能抽真空,真空度可達5pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點,是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
三、真空箱式爐規(guī)格型號
設備型號 | TZL-10-16 | TZL-15-16 | TZL-15-16 | TZL-20-16 | TZL-20-16 |
zui高溫度 | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ |
控制精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
爐膛尺寸(mm) (W×H×L) | 200*200*500 | 250*300*1170 | 300*300*1560 | 320*320*1600 | 300*350*1700 |
發(fā)熱元件 | Φ6*210*210*30 U型硅鉬棒 | Φ6*320*270*30 U型硅鉬棒 | Φ6*340*270*30 U型硅鉬棒 | Φ6*370*270*30 U型硅鉬棒 | |
真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa |
冷態(tài)壓升率 | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h |
zui大功率 | 22Kw | 78kw | 90kw | 96kw | 105kw |
溫控方式 | 可控硅模塊自控 |
注:可根據(jù)用戶要求另行設計制造,更多規(guī)格及參數(shù)和詳細技術方案請來電索取。