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光催化氧化/UV光解廢氣處理器

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更新時間：2018-05-15 16:02:09瀏覽次數(shù)：3221次

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產(chǎn)品簡介

催化（光觸媒）凈化
光催化凈化是基于光催化劑在紫外線照射下具有的氧化還原能力而凈化污物。利用光催化凈化技術(shù)去除空氣中的有機(jī)污染物。

詳細(xì)介紹

1 光催化作用機(jī)理與光催化氧化反應(yīng)模型
1)光催化作用機(jī)理
Ti02作為一種半導(dǎo)體材料之所以能夠作為催化劑，是由其自身的光電特性所決定的，根據(jù)定義，超細(xì)半導(dǎo)體粒子含有能帶結(jié)構(gòu)且能帶不是連續(xù)的，其能級結(jié)構(gòu)可用帶隙理論描述，即物質(zhì)價電子軌道通過交疊形成不同的帶隙，由低到高依次充滿電子的價帶、禁帶和空的導(dǎo)帶
Ti02的禁帶寬度Eg=3.2 eV，相當(dāng)于波長387.5 nm的光子能量。穩(wěn)態(tài)時Ti02的電子充滿于價帶中，導(dǎo)帶是一系列空能級軌道的集合體，當(dāng)用波長等于或小于387.5 nm（能量等于或大于于3.2 eV）的光照射半導(dǎo)體時，價帶上的電子（e一）被激發(fā)并躍遷到導(dǎo)帶，在價帶上產(chǎn)生空穴(h+)，并在電場的作用下分離并遷移到粒子表面。光生空穴(h+)由于具有*的得電子能
力，因而具有很強(qiáng)的氧化能力，能將其表面吸附的OH -離子和H20分子氧化成·OH自由基而．OH幾乎無選擇地將有機(jī)物氧化，并zui終降解為C02和H20，也有部分有機(jī)物與h+直接反應(yīng)，而遷移到表面的電子（e一）則具有很強(qiáng)的還原能力。同時，也存在著電子與空穴復(fù)合的可
能性，如果沒有適當(dāng)?shù)碾娮雍涂昭ǚ@劑，儲備的能量在幾個us之內(nèi)就會通過復(fù)合而消耗掉而如果選用適當(dāng)?shù)姆@劑或表面空位來俘獲電子或空穴，復(fù)合就會受到抑制，隨即氧化還原反

光催化凈化器
    圖5.8半導(dǎo)體光激發(fā)原理圖
A-氧化劑(02)；B-還原劑(VOCs)
應(yīng)就會發(fā)生。因此，電子結(jié)構(gòu)、吸光特性、電荷遷移、載流子壽命及載流子復(fù)合速率的*組合對于提高催化活性是至關(guān)重要的。由于光生空穴和電子的復(fù)合在1ns①到1ps②內(nèi)就可以發(fā)生，從動力學(xué)觀點看，只有在有關(guān)的電子受體或電子供體預(yù)先吸附在催化劑表面時，界面電荷的傳遞和被俘獲才能有效的進(jìn)行。當(dāng)有機(jī)物與水蒸氣共存于氣相時，水分子及有機(jī)物本身均可以充當(dāng)光生空穴的俘獲劑。
    在整個光催化反應(yīng)中，-OH起著決定性作用，半導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生的電子一空穴對存在分離與復(fù)合的競爭。電子與空穴復(fù)合的幾率越小，光催化活性越高，是光催化氧化的主要氧化劑。對于發(fā)生在Ti02表面的氣一固相光催化氧化分解過程，表面羥基化可能是反應(yīng)的關(guān)鍵步驟。光生電子（e一）的俘獲劑主要是吸附于Ti02表面上的氧。它既可以抑制電子與空穴的復(fù)合，同時也可以氧化己羥基化的反應(yīng)產(chǎn)物，是表面羥基的另一個來源。當(dāng)催化劑表面主要吸附物為有機(jī)物時，空穴與有機(jī)物的直接反應(yīng)為主要途徑。半導(dǎo)體粒子尺寸越小，電子與空穴遷移到表面的時間越少，復(fù)合的幾率越小；
比表面Ti02大，越有利于反應(yīng)物的Langmiur-Hinshelwood率'由于納米級有更高的光催化效率，因而獲得了廣泛的研究與應(yīng)用
2)光催化氧化反應(yīng)模型
    氣一固相光催化分解有機(jī)物的反應(yīng)涉及到傳質(zhì)和光催化反應(yīng)2個過程，包含j
    ①反應(yīng)物從氣流中通過層流邊界層向催化劑外表面擴(kuò)散。
    ②反應(yīng)物從催化劑外表面通過微孔向催化劑內(nèi)表面擴(kuò)散。
    ③反應(yīng)物被催化劑表面化學(xué)吸附。
    ④反應(yīng)物在催化劑表面上發(fā)生氧化還原反應(yīng)。
    ⑤反應(yīng)產(chǎn)物脫附離開催化劑表面。
    ⑥反應(yīng)產(chǎn)物從催化劑內(nèi)表面向外表面擴(kuò)散。
    ⑦反應(yīng)產(chǎn)物從催化劑外表面擴(kuò)散到主氣流中。