1.設備簡介
小型磁控濺射鍍膜儀,主要特點是設備體積小,結構簡單緊湊易于操作,對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者優(yōu)的配置,從而提高設備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇,可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置,比較靈活;標配2只Φ2英寸永磁靶,一臺500W直流濺射電源,主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
2.設備主要優(yōu)勢
2.1 實用性:設備集成度高,結構緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉換,實現(xiàn)一機多用;
2.2 方便性:設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調試簡單,既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔;
2.3 高性價比:設備主要零部件采用進口或國內,以國產設備的價格擁有進口設備的配置,從而保證了設備的質量及性能;
2.4 安全性:獨立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能,保證了設備的使用安全性能;
3.主要技術參數(shù)
3.1 腔室尺寸:Ф246×228mm,1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質,氬弧焊接;
3.2 樣品臺尺寸:Ф75mm,高度:60~120mm可調,旋轉:0-20r/min可調;
3.3 真空系統(tǒng):機械泵(TRP-12,3L/s)+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)(可選國產分子泵);GDC-25b電磁擋板閥,DN25mm 限流閥;
3.4 極限真空:8.0×10-5Pa;
3.5 真空抽速:大氣~8×10-4Pa ≤ 20min;
3.6 真空測量:全量程復合真空計,測量范圍:105Pa~10-5Pa;
3.7 磁控靶:Φ2英寸2只(含靶擋板),兼容直流電源和射頻電源;
3.8 濺射電源:直流和射頻可選;
3.9 質量流量計:20sccm、50sccm質量流量控制器各一套;
3.10控制方式:PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng),具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能;
3.11設備外形:L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架,預留1個KF40法蘭接口;
3.12 設備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);
3.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng):水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃,給設備相關需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水