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北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
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產(chǎn)品型號wayes-PLD450
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
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更新時間：2017-04-20 09:47:19瀏覽次數(shù)：440次
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超高真空激光外延系統(tǒng)
一、 系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)
系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。
超高真空激光外延系統(tǒng)
一、 系統(tǒng)的主要組成及技術(shù)指標(biāo)
系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。
1、 ★★外延室：
極限真空優(yōu)于：5.0x10-8Pa
真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S
1.1、 ★真空室組件：1套
真空室采用球形結(jié)構(gòu)，尺寸：Ф450mm；選用0Cr18Ni9Ti不銹鋼材料制
造，氬弧焊接，表面噴玻璃丸及電化學(xué)拋光處理，全部接口采用金屬墊圈密
封，腔體上各種法蘭接口如下：
1.1.1 、CF250接口法蘭1個（接升華泵）；
1.1.2 、CF200接口法蘭1個（接靶組件）；
1.1.3 、CF150接口法蘭4個（接樣品臺組件、分子泵、離子泵、活開門
組）；
1.1.4 、CF100接口法蘭7個（接2個激光入射窗口、高能電子衍射電子
槍、熒光屏 口、進(jìn)樣室口、2個光譜口）；
1.1.5 、CF50接口法蘭5個（2個觀察窗口、1個紅外測溫窗口、2個備用）；
1.1.6 、CF35接口法蘭5個（接規(guī)管、放電電極、2個備用）；
1.1.7 、CF16接口法蘭6個（低真空規(guī)管、放電電極、進(jìn)氣管路、充氣閥、 照明、備用；
1.2 、★旋轉(zhuǎn)靶臺組件：1套
1.2.1、CF200密封法蘭，靶與樣品之間距離可調(diào)30～90mm（腔外調(diào)節(jié)）；
1.2.2、靶組件為垂直結(jié)構(gòu)，靶材zui大尺寸Φ70mm, 每次可以裝四塊靶材；提供可安裝直徑分別為Φ25mm、Φ30mm、Φ50mm、Φ70mm靶材的靶材架各四套。
1.2.3、每塊靶材可實現(xiàn)自轉(zhuǎn)，磁力耦合傳動，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分，連續(xù)可調(diào)，電機(jī)驅(qū)動；
1.2.4、公轉(zhuǎn)換靶采用波紋管轉(zhuǎn)軸驅(qū)動，由電機(jī)控制；
1.2.5、靶的定位與靶距調(diào)節(jié)均采用光電開關(guān)定位，靶組件的中心位置定在前方靶面與基片的距離為60mm的位置，為了保證靶定位精度，采用細(xì)分驅(qū)動器控制電機(jī)；
1.3、 ★基片加熱臺組件：1套
1.3.1、 基片尺寸：提供安裝1*1cm方形基片的基片架六套；Φ25和Φ51圓形基片的基片架各兩套。
1.3.2、★★采用抗氧化材料作加熱器；基片加熱zui高溫度 800°C±1°C，由熱電偶閉環(huán)反饋控制；基片溫度誤差小于±1°C；基片溫度從中心到邊沿的偏差小于±1°C。
1.3.3、 基片臺可以作前后手動移動，采用波紋管密封結(jié)構(gòu)，基片以RHEED的位置為準(zhǔn)可拉出30mm，縮進(jìn)20mm；
1.3.4、 基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分，電機(jī)驅(qū)動；
1.3.5 、樣品擋板組件；
1.4、★窗口及法蘭盲板組件
1.4.1 、供準(zhǔn)分子激光入射用的石英玻璃窗口（選用JGS1-1型石英玻璃）：6個
1.4.2 、觀察用玻璃窗CF50：2個
1.4.3 、紅外測溫窗CF50：1個
1.4.4 、CF35盲法蘭：1個
1.4.5 、CF50盲法蘭：2個
1.5、 ★活開門組件：1套
1.5.1、 上焊接Ф50mm 通導(dǎo)窗口；
1.5.2、 采用膠圈，金屬兩用密封結(jié)構(gòu)；
1.6、 ★工作氣路組件：3條
1.6.1、質(zhì)量流量控制器、DG16角閥、管路、接頭等：2路
質(zhì)量流量計范圍：1--100SCCM（廠家：北京匯博?。?/p>
1.6.2、CF16角閥、管路、接頭 ：1路
1.7、★工作真空獲得:機(jī)械泵+分子泵+離子泵+升華泵
1.7.1、抽速：8升/秒，2XZ-8直連機(jī)械泵:1臺
1.7.2、抽速：620升/秒，分子泵及控制電源:1臺
1.7.3、抽速：400升/秒，濺射離子泵及控制電源:1臺
1.7.4、鈦鉬絲升華泵及控制電源:1臺
1.7.5、CC-150-B閘板閥：2臺
分別用于分子泵與外延室隔離，離子泵與真空室隔離。
1.7.6、CC-100-B閘板閥：1臺
進(jìn)樣室與外延室隔離。
1.7.7、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管：1套
1.7.8、電磁隔斷放氣閥：DN40：1臺
1.8、★★真空測量
1.8.1、DL-7型超高真空測量規(guī)、計：1套
測量范圍：1.0x10-2Pa～1.0x10-8Pa；
1.8.2、ZDF復(fù)合真空計測量低真空：1套
測量范圍：1.0x105Pa～1.0x10-1Pa；
2、進(jìn)樣室：
極限真空優(yōu)于：1.0x10-5Pa；
真空漏率小于5.0x10-8Pa.l/S；
2.1、 ★真空室組件：1套
真空室腔體尺寸Ф150x150mm，上面開有連接樣品傳輸桿、真空泵、活開
門、真空規(guī)、放氣閥等各種規(guī)格的法蘭接口，選用0Cr18Ni9Ti不銹鋼材料制
造，氬弧焊接，表面噴玻璃丸及電化學(xué)拋光處理。
2.2、★★真空部件
2.2.1、 磁力樣品傳送桿，傳送距離700mm：1套
2.2.1、 壓力表，放在進(jìn)氣閥門外：1套
2.2.1、 觀察窗組件：1套
2.3、★★工作真空獲得:機(jī)械泵+分子泵
2.3.1、直聯(lián)機(jī)械泵：1臺（抽速4升/秒）；
2.3.2、復(fù)合分子泵及變頻控制電源：1臺（抽速600升/秒）；
2.3.3、分子泵與機(jī)械泵軟聯(lián)接金屬軟管：1套 ；
2.3.4、CF150-B閘板閥：1臺（用于分子泵與樣品引進(jìn)室隔離）；
2.3.5、ZDF量程高真空測量規(guī)、計：1套（用外延室真空計的另外兩路）
低真空規(guī)：1套（1.0x105Pa～1.0x10-1Pa）；
電離規(guī)：1套（1.0x10-1Pa～1.0x10-5Pa）；
2.3.6、高真空角閥CF16、管路、接頭、充氣閥D6等：1路（解除真空充氮氣）；
2.3.7、KF25電磁壓差閥：1臺；
2.3.8、KF40電磁截止閥：1臺；
2.4、相關(guān)規(guī)格的金屬密封銅圈，氟橡膠密封圈：全套
2.5、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等： 全套
3、 ★安裝機(jī)臺架組件：1套
安裝臺架：整個設(shè)備安放在一個用型鋼焊接而成的臺架上，臺面板由不銹鋼蒙皮裝飾，臺架及圍板均進(jìn)行噴塑處理。機(jī)臺有移動/固定腳輪兩用。
4、 ★電源控制系統(tǒng) ：1套
自制電源
4.1、總控制電源：1套
4.2、電源控制機(jī)柜：2臺
4.3、樣品加熱電源：1臺
4.4、鹵鎢燈照明電源 ：1臺
4.5、步進(jìn)電機(jī)旋轉(zhuǎn)電源：4套
4.6、升華泵電源：1套
4.7、機(jī)械泵啟動控制電源：2套
外配套電源
4.8、3L-400離子泵電源：1套
4.9、FB620分子泵電源：2套
4.10、電離真空計電源：2套
4.11、質(zhì)量流量計電源（2顯）：1套
5、★備品備件：1套
5.1、無氧銅密封墊圈（相關(guān)規(guī)格）
CF16：5個； CF35：5個；
CF50：5個； CF100：3個； CF150：5個
Ф6mm：卡套：4套Ф6mm：不銹鋼管：6米
5.2、氟橡膠密封圈
Ф150 3個 Ф100 3個
5.3、烘烤帶： 4條
5.4、點鎢燈： 5個
5.5、加熱絲： 3米
6、★配套儀器及控制系統(tǒng)
1）、★★差分式高能電子衍射儀（RHEED）： 1套
（1）、高能電源：zui高能量25KV，zui大束流100μA。
（2）、三極濺射離子泵（抽速：25升/秒）及閥門、管道：1套
（3）、熒光屏：1快
（4）、熒光屏擋板：1套
（5）、照像用黑筒：1套
2）、★★RHEED強(qiáng)度振蕩，生長速率監(jiān)測系統(tǒng) ： 1套
主要由攝象頭，硬件，計算機(jī)控制軟件包等組成。
3）、★★激光束掃描裝置 ： 1套
（1)、二維掃描機(jī)械平臺。
（2)、手動/自動，兩套步進(jìn)電機(jī)控制，執(zhí)行兩自由度掃描。
4）、★★氧等離子體發(fā)生器及電源 ： 1套
5）、計算機(jī)控制系統(tǒng) ： 1套
（1）、由硬件卡，計算機(jī)控制軟件包，及計算機(jī)組成。
（2）、控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等。
6）、★★四極質(zhì)譜儀（質(zhì)量數(shù)：1---100）
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