uv光解除臭設(shè)備裝置原理：

1.本產(chǎn)品利用特制的高能臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S/VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無(wú)害或低害的結(jié)合物，如CO2、H2O等。

2.uv光解除臭設(shè)備裝置利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC），無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味。
2.無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
3.適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
4.運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需做定期檢查，本設(shè)備能耗低。
5.無(wú)需預(yù)處理。
6.設(shè)備占地面積小，自重輕，適合于布置緊湊，場(chǎng)地狹小等特殊條件。優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造，防火、防爆、防腐蝕。

UV惡臭光解除味器適用范圍：

適用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理